[發明專利]基于模型的對齊及臨界尺寸計量

無效

• 申請號: 201380049662.1
• 申請日: 2013-09-24
• 公開（公告）號: CN104662543A
• 公開（公告）日: 2015-05-27
• 發明（設計）人: M·M·丹尼斯帕納;A·塞茲希內爾
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G06F19/00
• 分類號: G06F19/00;G06F11/00
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 張世俊

1.一種基于模型的測量方法，其包括：

利用成像裝置來獲得針對光掩模指定的測量部位的至少一個光學圖像；

從掩模設計數據庫檢索光掩模的設計；

選擇所述設計的對應于所述所指定測量部位的一部分；

利用所述成像裝置的計算裝置實施模型來產生所述設計的所述選定部分的至少一個所模擬圖像；

調整所述計算裝置實施模型的至少一個參數以使所述至少一個所模擬圖像與所述至少一個光學圖像之間的相異性最小化，其中所述至少一個參數包含以下各項中的至少一者：圖案對齊參數或臨界尺寸參數；以及

在所述至少一個所模擬圖像與所述至少一個光學圖像之間的所述相異性被最小化時，報告所述計算裝置實施模型的所述圖案對齊參數或所述臨界尺寸參數中的所述至少一者。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述至少一個光學圖像包含離焦圖像堆疊，所述離焦圖像堆疊包括以不同成像裝置設定獲得的所述測量部位的多個光學圖像。

3.根據權利要求2所述的方法，其中所述至少一個所模擬圖像包含針對不同焦點設定產生的多個所模擬圖像，其中所述多個所模擬圖像中的每一者對應于所述多個光學圖像中的一者。

4.根據權利要求3所述的方法，其中所述計算裝置實施模型的所述至少一個參數經調整以使所述多個所模擬圖像與所述多個光學圖像之間的總體相異性最小化。

5.根據權利要求1所述的方法，其中所述至少一個可調整參數進一步包含所述成像裝置的預定像差參數。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述至少一個可調整參數進一步包含以下各項中的至少一者：掩模工藝參數、掩模近場參數、焦點參數、所述成像裝置的像差參數、光強度增益、波長及像素大小。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述至少一個光學圖像包含相對于所述光掩模以兩個不同定向獲得的兩個光學圖像。

8.根據權利要求1所述的方法，其中所述兩個不同定向相差180度。

9.一種基于模型的測量方法，其包括：

利用成像裝置來獲得針對光掩模指定的測量部位的離焦圖像堆疊，所述離焦圖像堆疊包含以不同焦點設定獲得的所述測量部位的多個光學圖像；

從掩模設計數據庫檢索光掩模的設計；

選擇所述設計的對應于所述所指定測量部位的一部分；

利用所述成像裝置的計算裝置實施模型來產生所述設計的所述選定部分的多個所模擬圖像，所述多個所模擬圖像是針對不同焦點設定而產生的，且所述多個所模擬圖像中的每一者對應于所述多個光學圖像中的一者；

調整所述計算裝置實施模型的至少一個參數以使所述多個所模擬圖像與所述多個光學圖像之間的相異性最小化，其中所述至少一個參數包含以下各項中的至少一者：圖案對齊參數或臨界尺寸參數；以及

在所述多個所模擬圖像與所述多個光學圖像之間的所述相異性被最小化時，報告所述計算裝置實施模型的所述圖案對齊參數或所述臨界尺寸參數中的所述至少一者。

10.根據權利要求9所述的方法，其中所述至少一個可調整參數進一步包含所述成像裝置的預定像差參數。

11.根據權利要求9所述的方法，其中所述至少一個可調整參數進一步包含以下各項中的至少一者：掩模工藝參數、掩模近場參數、焦點參數、所述成像裝置的像差參數、光強度增益、波長及像素大小。

12.根據權利要求9所述的方法，其中所述多個光學圖像中的每一者包含相對于所述光掩模以兩個不同定向獲得的兩個光學圖像。

13.根據權利要求12所述的方法，其中所述兩個不同定向相差180度。

14.根據權利要求9所述的方法，其進一步包括：

對所述多個光學圖像中的每一者應用圖像校正過程。