[發(fā)明專利]用于對目標(biāo)物電解涂覆的設(shè)備和方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380049504.6 | 申請日: | 2013-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN104685112A | 公開(公告)日: | 2015-06-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 達(dá)格瑪·洛倫茲;克勞斯·梅寧根;馬庫斯·拉布 | 申請(專利權(quán))人: | 尼霍夫機械制造公司 |
| 主分類號: | C25D17/10 | 分類號: | C25D17/10;C25D21/12;C25D21/14;C25D3/30;C25D7/06;C25D5/18 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237 | 代理人: | 寇闖 |
| 地址: | 德國施*** | 國省代碼: | 德國;DE |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 目標(biāo) 電解 設(shè)備 方法 | ||
1.一種對目標(biāo)物進(jìn)行電解涂覆的設(shè)備,包括:
裝有電解質(zhì)(12)的電解質(zhì)容器(10);
第一直流電源(16);
至少一個可溶陽極(14),所述至少一個可溶陽極(14)至少部分地浸入至所述電解質(zhì)容器(10)中的電解質(zhì)(12)中,并導(dǎo)電連接至所述第一直流電源(16)的正極上;和
至少一個陰極端子(20),所述至少一個陰極端子(20)導(dǎo)電連接至所述第一直流電源(16)的負(fù)極上,并且待涂覆的目標(biāo)物(18)導(dǎo)電連接至所述至少一個陰極端子(20),所述目標(biāo)物(18)浸入至所述電解質(zhì)容器(10)中的電解質(zhì)(12)中,
其特征在于,
第二直流電源(24),所述第二直流電源(24)可獨立于所述第一直流電源(16)運行;和
至少一個不溶性陽極(22),所述至少一個不溶性陽極(22)至少部分地浸入至所述電解質(zhì)容器(10)中的電解質(zhì)(12)中,并導(dǎo)電連接至所述第二直流電源(24)的正極上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,
所述第二直流電源(24)的電流強度能獨立于第一直流電源(16)的電流強度進(jìn)行調(diào)節(jié)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備,其特征在于,
設(shè)置有用于驅(qū)動第一直流電源(16)和/或驅(qū)動第二直流電源(24)的控制裝置(26),且以作為電解質(zhì)容器(10)中的電解質(zhì)(12)的至少一個電解參數(shù)的函數(shù)進(jìn)行驅(qū)動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其特征在于,
設(shè)置有用于檢測電解質(zhì)容器(10)中的電解質(zhì)的至少一個電解參數(shù)的測量裝置(28)。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的設(shè)備,其特征在于,
所述設(shè)備設(shè)置為通量設(shè)備以對目標(biāo)物進(jìn)行連續(xù)電解涂覆。
6.一種對目標(biāo)物進(jìn)行電解涂覆的方法,包括:
將導(dǎo)電連接至第一直流電源(16)的正極上的待涂覆的目標(biāo)物(18)浸入至電解質(zhì)容器(10)中的電解質(zhì)(12)中,且有至少一個可溶陽極(14)至少部分地浸入至所述電解質(zhì)(12)中,有至少一個不溶性陽極(22)導(dǎo)電連接至第二直流電源(24)的正極端子上并至少部分浸入至所述電解質(zhì)(12)中;
將導(dǎo)電連接至第一直流電源(16)的負(fù)極的待涂覆的目標(biāo)物(18)和第二直流電源(24)的負(fù)極連接;和
對所述第二直流電源(24)獨立于第一直流電源(16)進(jìn)行操作。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,
所述第一直流電源(16)的電流強度和所述第二直流電源(24)的電流強度設(shè)置為彼此不同。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的方法,其特征在于,
所述第一直流電源(16)的總電流強度和所述第二直流電源(24)的總電流強度保持為大致恒定。
9.根據(jù)權(quán)利要求6至8中任一項所述的方法,其特征在于,
所述第一直流電源(16)和/或第二直流電源(24)在電解質(zhì)容器(10)中以所述電解質(zhì)(12)的至少一個電解參數(shù)的函數(shù)被驅(qū)動。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,
在所述電解質(zhì)容器(10)中所述電解質(zhì)(12)的至少一個電解參數(shù)周期性地或連續(xù)地檢測。
11.根據(jù)權(quán)利要求6至10中任一項所述的方法,其特征在于,
所述目標(biāo)物(18)在連續(xù)程序中被連續(xù)地電解涂覆。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的設(shè)備或根據(jù)權(quán)利要求6至11中任一項所述的方法用于對電線電解涂覆的用途。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于尼霍夫機械制造公司;,未經(jīng)尼霍夫機械制造公司;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380049504.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:染料固定劑和方法
- 下一篇:電子零件用金屬材料及其制造方法
- 目標(biāo)檢測裝置、學(xué)習(xí)裝置、目標(biāo)檢測系統(tǒng)及目標(biāo)檢測方法
- 目標(biāo)監(jiān)測方法、目標(biāo)監(jiān)測裝置以及目標(biāo)監(jiān)測程序
- 目標(biāo)監(jiān)控系統(tǒng)及目標(biāo)監(jiān)控方法
- 目標(biāo)跟蹤方法和目標(biāo)跟蹤設(shè)備
- 目標(biāo)跟蹤方法和目標(biāo)跟蹤裝置
- 目標(biāo)檢測方法和目標(biāo)檢測裝置
- 目標(biāo)跟蹤方法、目標(biāo)跟蹤裝置、目標(biāo)跟蹤設(shè)備
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
- 目標(biāo)跟蹤系統(tǒng)及目標(biāo)跟蹤方法
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





