[發(fā)明專利]曝光描繪裝置、曝光描繪系統(tǒng)、程序及曝光描繪方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380049240.4 | 申請日： | 2013-08-27 |
| 公開（公告）號： | CN104662479B | 公開（公告）日： | 2016-11-16 |
| 發(fā)明（設計）人： | 尾崎幸久;佐藤淳一 | 申請（專利權）人： | 株式會社阿迪泰克工程 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中原信達知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11219 | 代理人： | 權太白;謝麗娜 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 曝光 描繪 裝置 系統(tǒng) 程序 方法 | ||
【說明書】：
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