[發明專利]非平面的玻璃拋光墊及制造方法有效
| 申請號: | 201380049109.8 | 申請日: | 2013-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN104661794B | 公開(公告)日: | 2018-03-06 |
| 發明(設計)人: | B·沐恩希;J·安德森;S·B·達斯奇維奇;G·J·瓦希爾茲克 | 申請(專利權)人: | JH羅得股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/26 | 分類號: | B24B37/26 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司31100 | 代理人: | 朱立鳴 |
| 地址: | 美國亞*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 平面 玻璃 拋光 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及玻璃拋光墊,具體來說,涉及一種具有某種形貌的拋光墊,該形貌構造成能拋光具有一個或多個非平面部分的工件。該拋光墊可用于非平面玻璃工件的拋光或諸如陶瓷或金屬工件之類的其他非平面的拋光應用。在示例性的實施例中,拋光墊包括同心的環形通道,其中,非平面拋光工件可在所有表面上進行拋光。
背景技術
拋光墊用于許多種應用中。一種如此的應用便是拋光玻璃工件。不管什么應用,拋光墊總是相對于要被拋光的物體(例如,玻璃、硅晶片、藍寶石晶片等)移動。該相對運動可通過轉動拋光墊、轉動要被拋光的物體或此類運動的組合來實現。其它線性的和任何有用的相對運動可用于拋光墊和被拋光的物體之間。在某些實施例中,可施力來壓緊與晶片接觸的拋光墊。拋光可以進行到不同的程度,諸如除去較大的缺陷來達到鏡面光潔度和/或最終的平整度等。
傳統上,通過機械化學的工藝過程來實現除去重疊缺陷的拋光玻璃工件的過程,在機械化學工藝過程中,通常由尿烷制成的一個或多個拋光墊與拋光溶液(漿液)一起使用,拋光溶液通常包括諸如氧化鈰或氧化鋯那樣的細小研磨顆粒。玻璃工件被支承在覆蓋有拋光墊的壓板和附連著工件的承載器之間,或在雙側拋光的情形中,工件被夾持在兩個壓板之間,每個都覆蓋有拋光墊。拋光墊通常約為1mm厚,壓力施加到晶片表面上。平面的工件通過壓板和工件之間的相對運動以機械化學方式進行拋光。對此類拋光系統的變化也可用來拋光平面的工件。
在拋光過程中,通過將拋光墊和工件一起壓緊在拋光工具內,將壓力施加到平面工件的表面上,由此,由于拋光墊的壓縮變形,在全部平面的表面上產生均勻的壓力。拋光工具通常具有動力頭,其可以不同的速度在變化的轉動軸線上轉動。該動作可從工件上移去質量并因此從工件研磨過程中去除損壞處。
例如,拋光墊可以是聚亞安酯拋光墊。典型的聚亞安酯拋光墊設計成附連到平面的壓板上,用來拋光平面的工件。然而,人們越來越多地使用特殊的玻璃工件,這種玻璃工件具有非平面的表面,或具有包括非平面部分的表面。遺憾的是,標準的聚亞安酯拋光墊不能有效地拋光非平面的工件。一般的拋光墊不為非平面的工件所接受的原因之一是,它們不能在整個表面上提供均勻的拋光。標準的拋光墊一般不能夠與非平面工件的全部表面區域保持接觸。因此,在工件表面的有些部分上,它們不能除去刮痕(工件研磨過程中的遺跡)或其他缺陷。在用平面的拋光墊拋光非平面的表面的正常過程中,拋光墊不能足夠地壓緊工件以有效地接觸工件全部的表面區域。使用可壓縮的平面的聚亞安酯泡沫或堆疊的平面泡沫復合材料,可有助于提供附加的覆蓋,但在曲率很大的情形中,仍然不能接觸到所有的表面區域。未完全拋光到的工件結果會被報廢為不合格品。
為了解決這些問題,一個解決方案是增加將拋光墊壓緊到待要拋光的非平面的表面上的力。該增大的力企圖迫使拋光墊符合于非平面的表面。然而,已經證明這些努力均是徒勞無益的。這樣的力要么仍不足以均勻地拋光待要拋光玻璃的全部表面,要么就是壓力過大而造成玻璃破碎。在另一嘗試的解決方案中,本質上平面的且壓縮程度可變的典型的拋光墊,不能有效地接觸到待要拋光的工件的全部表面區域。還有,比較軟的和/或設計成磨損更快的更加可壓縮的典型的拋光墊,與比較剛的拋光墊(例如,平面的聚亞安酯拋光墊)相比拋光速度較慢,和/或會造成缺陷。
因此,業界從用來拋光非平面的拋光墊轉向,而廣泛地使用刷子、翼片等。刷子或翼片設計成能接觸到所有的表面。翼片可用氈呢材料、地毯樣材料等制成。刷子或翼片設計成用來拋光玻璃工件的非平面部分。例如,可垂直地轉動矩形的玻璃塊,以呈現出待要拋光的第一邊緣。刷子或翼片可在第一邊緣上摩擦以拋光該非平面的區域。然后,玻璃可在其承載器內轉動以呈現出第二邊緣,以便作類似的處理。然后對每一邊緣重復該過程。盡管繁瑣、費時、費錢并增加損壞玻璃的幾率,但這是目前首選的工藝過程。
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