[發明專利]氧化鋯陶瓷的著色

有效

• 申請號: 201380049057.4
• 申請日: 2013-09-12
• 公開（公告）號: CN104918900B
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發明（設計）人: A·赫爾曼;M·揚斯
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: C04B41/85
• 分類號: C04B41/85
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳長會;徐一琨

1.部件套件，包括：

·著色溶液，

·多孔氧化鋯制品，

·任選地施用設備，

所述著色溶液包含

·量高于0.05mol/l著色溶液的一種或多種著色劑的一種或多種陽離子，所述一種或多種著色劑的所述一種或多種陽離子選自Fe離子、Mn離子、Er離子、Pr離子、V離子、Cr離子、Co離子、Mo離子、Ce離子、Tb離子以及它們的混合物，

·用于所述一種或多種離子的一種或多種溶劑，

·任選地一種或多種絡合劑，

·任選地一種或多種增稠劑，

·任選地一種或多種有機標記物質，

·任選地一種或多種添加劑，

所述多孔氧化鋯制品示出根據IUPAC分類的IV型N₂等溫吸附和解吸以及10m²/g至200m²/g的BET表面；

所述多孔氧化鋯制品的特征在于以下特征中的至少一個：

·ZrO₂含量：70摩爾％至98摩爾％；

·HfO₂含量：0摩爾％至2摩爾％；

·Y₂O₃含量：1摩爾％至15摩爾％；

·Al₂O₃含量：0摩爾％至1摩爾％；以及

所述多孔氧化鋯制品是牙科陶瓷制品。

2.根據權利要求1所述的部件套件，所述一種或多種著色劑的所述一種或多種陽離子選自Fe離子、Mn離子、Er離子、Pr離子、Tb離子以及它們的混合物。

3.根據權利要求1或2所述的部件套件，所述多孔氧化鋯制品的特征在于以下特征中的至少一個：

·

·示出根據IUPAC分類的具有H1型滯后回線的N₂吸附和解吸行為；

·示出具有在0.70至0.95的p/p₀范圍內的滯后回線的N₂吸附和解吸行為；

·平均相連孔徑：10nm至100nm；

·平均晶粒尺寸：小于100nm；

·BET表面：15m²/g至100m²/g；

·雙軸彎曲強度：10MPa至40MPa；

·x、y、z維度：至少5mm；

·維氏硬度：25至150。

4.根據權利要求3所述的部件套件，所述平均相連孔徑為10nm至80nm。

5.根據權利要求3所述的部件套件，所述平均相連孔徑為10nm至50nm。

6.根據權利要求3所述的部件套件，其中BET表面：16m²/g至60m²/g。

7.根據權利要求3所述的部件套件，所述雙軸彎曲強度為15MPa至30MPa。

8.根據權利要求3所述的部件套件，所述x、y、z維度為至少10mm。

9.根據權利要求3所述的部件套件，所述x、y、z維度為至少20mm。

10.根據權利要求1或2所述的部件套件，所述多孔氧化鋯制品的特征在于以下特征中的至少一個：

·ZrO₂含量：80摩爾％至97摩爾％；

·HfO₂含量：0.1摩爾％至1.8摩爾％；

·Y₂O₃含量：1.5摩爾％至10摩爾％；

·Al₂O₃含量：0.005摩爾％至0.5摩爾％。

11.根據權利要求1或2所述的部件套件，所述多孔氧化鋯制品已通過熱處理氧化鋯氣凝膠而獲得。