[發(fā)明專利]金屬絡(luò)合物和過氧化氫的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380048834.3 | 申請日: | 2013-08-02 |
| 公開(公告)號: | CN104640854A | 公開(公告)日: | 2015-05-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 小江誠司;加藤賢治;長田昌輝 | 申請(專利權(quán))人: | 三菱瓦斯化學(xué)株式會社;國立大學(xué)法人九州大學(xué) |
| 主分類號: | C07D401/14 | 分類號: | C07D401/14;B01J31/22;C01B15/022;C07F1/08;C07F1/10;C07F1/12;C07F11/00;C07F13/00;C07F15/00;C07F15/02;C07F15/04;C07F15/06 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬 絡(luò)合物 過氧化氫 制造 方法 | ||
1.下述通式(1)、(2)、(3)或(4)所示的金屬絡(luò)合物:
式(1)中,M表示鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鉬、釕、銠、鈀、銀、鎢、錸、鋨、銥、鉑或金,n+表示M的電荷,
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9各自獨立地表示氫原子、鹵素、羥基、碳原子數(shù)1~20的烷基、碳原子數(shù)7~20的芳烷基、碳原子數(shù)6~20的芳基、被碳原子數(shù)1~20的烴基所取代的甲硅烷基、碳原子數(shù)1~20的烷氧基、碳原子數(shù)7~20的芳烷氧基、碳原子數(shù)6~20的芳氧基或者被碳原子數(shù)1~20的烴基所取代的氨基,
X、Y和Z各自獨立地表示H2O、OH-、O2-或鹵素離子,
m+表示所述金屬絡(luò)合物的除An1以外的部分的電荷,
An1是中和所述金屬絡(luò)合物的除An1以外的部分的電荷的抗衡離子,m-表示An1的電荷,
所述烷基、芳烷基、芳基、甲硅烷基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基和氨基任選被羥基烷氧基烷氧基所取代;
式(2)中,M、n、R1~R9和Y如式(1)中定義所示,l+表示所述金屬絡(luò)合物的除An2以外的部分的電荷,An2是中和所述金屬絡(luò)合物的除An2以外的部分的電荷的抗衡離子,l-表示An2的電荷;
式(3)中,M、n、R1~R9和Y如式(1)中定義所示,k+表示所述金屬絡(luò)合物的除An3以外的部分的電荷,An3是中和所述金屬絡(luò)合物的除An3以外的部分的電荷的抗衡離子,k-表示An3的電荷,各存在兩個的M、n、R1~R9和Y可以分別相同也可以不同;
式(4)中,M、n、R1~R9、X和Y如式(1)中定義所示,p+表示所述金屬絡(luò)合物的除An4以外的部分的電荷,An4是中和所述金屬絡(luò)合物的除An4以外的部分的電荷的抗衡離子,p-表示An4的電荷,各存在兩個的M、n、R1~R9、X和Y可以分別相同也可以不同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬絡(luò)合物,其中,所述烷基的碳原子數(shù)為1~4,所述芳烷基的碳原子數(shù)為7~10,所述芳基的碳原子數(shù)為6~9,所述烷氧基的碳原子數(shù)為1~4,所述芳烷氧基的碳原子數(shù)為7~10,所述芳氧基的碳原子數(shù)為6~9。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬絡(luò)合物,其中,在所述通式(1)中,R1、R2、R4、R5、R6、R8和R9為氫原子,R3和R7為甲基,X、Y和Z中的一個為OH-,剩余兩個為H2O,An1為硝酸根離子。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬絡(luò)合物,其中,在所述通式(2)中,R1、R2、R4、R5、R6、R8和R9為氫原子,R3和R7為甲基,Y為H2O,An2為硝酸根離子。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬絡(luò)合物,其中,在所述通式(3)中,R1、R2、R4、R5、R6、R8和R9為氫原子,R3和R7為甲基,Y為H2O,An3為硝酸根離子。
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