[發(fā)明專利]一種用于制造用于美學(xué)或標(biāo)記應(yīng)用的部分金屬化的精密合成線方形網(wǎng)眼織物的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380048082.0
• 申請日: 2013-07-23
• 公開（公告）號: CN104641732B
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 保羅·卡諾尼卡;卡爾米內(nèi)·盧奇尼亞諾
• 申請（專利權(quán)）人: 紗帝公司
• 主分類號: H05K1/03
• 分類號: H05K1/03;D06M11/83;H05K3/02
• 代理公司: 北京安信方達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11262
• 代理人: 胡秋玲,鄭霞

1.一種用于在由合成單線機織方形網(wǎng)眼織物組成的柔性子層上或在選自以下的任何其他的柔性子層上制造美學(xué)圖案的方法：聚合物膜、多線織物、紙、膜、非機織的或天然的纖維織物，所述柔性子層包括由金屬涂層至少部分地涂覆的子層表面，所述方法包括由激光束進行的蝕刻步驟，其特征在于，所述柔性子層由聚酯、聚酰胺、聚丙烯、聚醚砜、聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚苯硫醚、聚醚醚酮、聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯的單線制成，所述柔性子層具有在從2,500微米至0微米的范圍中的網(wǎng)眼開口、4-600線/cm、100-500微米的線直徑、織紋、15-300g/m²的重量、15-1,000微米的厚度；所述激光束被所述金屬涂層吸收而不修改所述柔性子層的聚合物主體和表面，所述聚合物主體和表面對所述激光束是透明的；所述激光束是在連續(xù)方案范圍或具有從100Hz至500MHz的頻率的脈沖方案范圍中操作的低功率高密度激光束，具有從200ns至10飛秒的脈沖持續(xù)時間、從1,080nm至354nm的波長、10W的最大功率和具有50微米的最小光斑尺寸的激光束光斑、或30W的最大功率和具有80微米的最小光斑尺寸的激光束光斑；所述激光束通過測微法控制的聚焦透鏡系統(tǒng)聚焦在所述柔性子層上；并且所述激光束通過與柔性子層驅(qū)動移動同時的所述激光束和所述柔性子層的組合移動，被驅(qū)動穿過所述柔性子層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光束由笛卡爾軸驅(qū)動裝置、機器臂、包括檢流計頭組件的透鏡和/或反射鏡系統(tǒng)驅(qū)動。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，產(chǎn)生所述激光束的激光器為二極管激光器、固體狀態(tài)激光器、光纖激光器或CO₂激光器。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光束引起所述金屬涂層的快速和局部蒸發(fā)，而沒有所述柔性子層的燃燒、熔融或降解現(xiàn)象。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，通過所述激光束移除所述金屬涂層在所述柔性子層的一個表面上或同時在兩個表面上進行。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法在所述柔性子層上提供圖案、標(biāo)志、文本、符號或任何目標(biāo)美學(xué)/標(biāo)記表征圖案。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項所述的方法，其特征在于，所述方法包括用于當(dāng)所述金屬涂層被激光束蒸發(fā)時防止所述織物經(jīng)歷降解現(xiàn)象的冷卻步驟，因為金屬蒸發(fā)潛熱和其厚度的組合實現(xiàn)使得引起熱量被傳導(dǎo)性地轉(zhuǎn)移到所述柔性子層的水平。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項所述的方法，其特征在于，所述方法包括在所述柔性子層的一個或兩個表面上應(yīng)用一個或更多個金屬涂層的另外的涂覆步驟。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法包括在所述柔性子層的一個或兩個表面上應(yīng)用一個或更多個金屬涂層的另外的涂覆步驟。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述另外的涂覆步驟通過PVD或化學(xué)沉積進行。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述另外的涂覆步驟通過電鍍沉積進行。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，PVD是濺射，化學(xué)沉積是CVD。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述另外的涂覆步驟通過PVD或化學(xué)沉積進行。

14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述另外的涂覆步驟通過電鍍沉積進行。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，PVD是濺射，化學(xué)沉積是CVD。

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述金屬涂層具有大于10nm的厚度，且是單層或多層金屬涂層。

17.根據(jù)權(quán)利要求1或9所述的方法，其特征在于，所述金屬涂層由金屬材料及其合金或選自以下的半導(dǎo)體材料制成：鎳、金、鋼、銅、銀、鋁、鉻、鈦、錫、銦錫氧化物、鋅鋁氧化物、錫氟氧化物、錫銻氧化物。

18.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述金屬涂層由金屬材料及其合金或選自以下的半導(dǎo)體材料制成：鎳、金、鋼、銅、銀、鋁、鉻、鈦、錫、銦錫氧化物、鋅鋁氧化物、錫氟氧化物、錫銻氧化物。