[發(fā)明專利]閃爍器面板和放射線檢測器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380048062.3 | 申請日： | 2013-09-17 |
| 公開（公告）號： | CN104769681B | 公開（公告）日： | 2017-08-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 外山真太郎;楠山泰;山下雅典;大澤弘武;鈴木克彥 | 申請（專利權(quán)）人： | 浜松光子學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號： | G01T1/20 | 分類號： | G01T1/20 |
| 代理公司： | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11322 | 代理人： | 楊琦 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 閃爍 面板 放射線 檢測器 | ||
1.一種閃爍器面板，其特征在于，
是用于將放射線轉(zhuǎn)換為閃爍光的閃爍器面板，
包括：
具有表面和背面的基板；
以相互分離的方式在所述基板的所述表面上形成且具有上表面和從所述上表面向所述基板的所述表面延伸的側(cè)面的多個(gè)閃爍器部；
以覆蓋所述閃爍器部的所述上表面和所述側(cè)面的方式在所述閃爍器部的所述上表面和所述側(cè)面上一體地形成的溶劑滲透阻止膜；和
在所述溶劑滲透阻止膜上形成且用于遮蔽所述閃爍光的光遮蔽層，
所述閃爍器部由閃爍器材料的多個(gè)柱狀晶體構(gòu)成，
所述溶劑滲透阻止膜以不填滿彼此相鄰的所述閃爍器部的所述側(cè)面彼此的間隙的方式形成，
所述光遮蔽層以填充所述間隙的方式在所述閃爍器部的所述側(cè)面上的所述溶劑滲透阻止膜上形成，
所述溶劑滲透阻止膜從所述閃爍器部的基端部朝向上端部逐漸變厚。
2.如權(quán)利要求1所述的閃爍器面板，其特征在于，
所述光遮蔽層以覆蓋所述閃爍器部的所述側(cè)面的方式在所述閃爍器部的所述側(cè)面上的所述溶劑滲透阻止膜上形成。
3.如權(quán)利要求1或2所述的閃爍器面板，其特征在于，
所述光遮蔽層以覆蓋所述閃爍器部的所述上表面的方式在所述閃爍器部的所述上表面上的所述溶劑滲透阻止膜上形成。
4.如權(quán)利要求1或2所述的閃爍器面板，其特征在于，
在所述基板，形成有在從所述基板的所述背面朝向所述表面的方向上從所述表面突出的多個(gè)凸部和由所述凸部規(guī)定的凹部，
所述閃爍器部分別在所述凸部的上表面上形成。
5.如權(quán)利要求3所述的閃爍器面板，其特征在于，
在所述基板，形成有在從所述基板的所述背面朝向所述表面的方向上從所述表面突出的多個(gè)凸部和由所述凸部規(guī)定的凹部，
所述閃爍器部分別在所述凸部的上表面上形成。
6.如權(quán)利要求4所述的閃爍器面板，其特征在于，
所述溶劑滲透阻止膜還以覆蓋所述凸部的側(cè)面的方式在所述凸部的所述側(cè)面上形成。
7.如權(quán)利要求5所述的閃爍器面板，其特征在于，
所述溶劑滲透阻止膜還以覆蓋所述凸部的側(cè)面的方式在所述凸部的所述側(cè)面上形成。
8.如權(quán)利要求4所述的閃爍器面板，其特征在于，
所述溶劑滲透阻止膜還以覆蓋所述凹部的底面的方式在所述凹部的所述底面上形成。
9.如權(quán)利要求5所述的閃爍器面板，其特征在于，
所述溶劑滲透阻止膜還以覆蓋所述凹部的底面的方式在所述凹部的所述底面上形成。
10.如權(quán)利要求6所述的閃爍器面板，其特征在于，
所述溶劑滲透阻止膜還以覆蓋所述凹部的底面的方式在所述凹部的所述底面上形成。
11.如權(quán)利要求7所述的閃爍器面板，其特征在于，
所述溶劑滲透阻止膜還以覆蓋所述凹部的底面的方式在所述凹部的所述底面上形成。
12.一種放射線檢測器，其特征在于，
包括：
具有表面和背面且具備多個(gè)光電轉(zhuǎn)換元件的基板；
以相互分離的方式在所述基板的所述表面上形成為與所述多個(gè)光電轉(zhuǎn)換元件光學(xué)結(jié)合且具有上表面和從所述上表面向所述基板的所述表面延伸的側(cè)面的多個(gè)閃爍器部；
以覆蓋所述閃爍器部的所述上表面和所述側(cè)面的方式在所述閃爍器部的所述上表面和所述側(cè)面上一體地形成的溶劑滲透阻止膜；和
在所述溶劑滲透阻止膜上形成且用于遮蔽閃爍光的光遮蔽層，
所述閃爍器部由閃爍器材料的多個(gè)柱狀晶體構(gòu)成，
所述溶劑滲透阻止膜以不填滿彼此相鄰的所述閃爍器部的所述側(cè)面彼此的間隙的方式形成，
所述光遮蔽層以填充所述間隙的方式在所述閃爍器部的所述側(cè)面上的所述溶劑滲透阻止膜上形成，
所述溶劑滲透阻止膜從所述閃爍器部的基端部朝向上端部逐漸變厚。
13.如權(quán)利要求12所述的放射線檢測器，其特征在于，
所述光遮蔽層以覆蓋所述閃爍器部的所述側(cè)面的方式在所述閃爍器部的所述側(cè)面上的所述溶劑滲透阻止膜上形成。
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