[發明專利]塑料光纖及其制造方法在審
| 申請號: | 201380047011.9 | 申請日: | 2013-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN104620145A | 公開(公告)日: | 2015-05-13 |
| 發明(設計)人: | 田中俊幸;笠原伸元;佐藤正邦;山本博志;齋藤貢;下平哲司;高野芳伸;太田直登 | 申請(專利權)人: | 旭硝子株式會社 |
| 主分類號: | G02B6/00 | 分類號: | G02B6/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 胡燁 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 塑料 光纖 及其 制造 方法 | ||
1.一種塑料光纖,它是具有
內層、和
覆蓋所述內層的外周且折射率低于所述內層的折射率的外層、和
覆蓋所述外層的外周的保護被覆層的塑料光纖,
其特征在于,
形成所述內層的材料含有不具備C-H鍵的非晶性含氟聚合物(a),
形成所述外層的材料含有可僅在主鏈的末端上具備C-H鍵的非晶性含氟聚合物(c),
所述含氟聚合物(c)的玻璃化溫度(Tgc)在所述含氟聚合物(a)的玻璃化溫度(Tga)以上,
所述塑料光纖是經過拉伸的光纖,
含氟聚合物(a)的下述斷裂延長率以及含氟聚合物(c)的下述斷裂延長率為120%以上,且比所述拉伸的拉伸倍率大;
含氟聚合物的斷裂延長率是指將厚度200μm的含氟聚合物膜沖壓為ASTM?D?1822所規定的試驗片型L的形狀,制造試驗片;根據JIS?K7161-1994,在形成保護被覆層的材料的玻璃化溫度下以拉伸速度10mm/分鐘進行試驗片的拉伸試驗,由下式(II)求出含氟聚合物的斷裂延長率(%);
含氟聚合物的斷裂延長率=斷裂時的試驗片的標線間距的增加/拉伸試驗前的試驗片的標線間距×100···(II)。
2.如權利要求1所述的塑料光纖,其特征在于,所述含氟聚合物(c)為不具有C-H鍵的含氟聚合物。
3.如權利要求1或2所述的塑料光纖,其特征在于,所述含氟聚合物(c)是含有下述單元(A)以及單元(B)、進一步含有單元(C)以及單元(D)的一方或雙方的共聚物;
單元(A):由具有2個以上聚合性雙鍵的含氟單體的環化聚合而形成的單元;
單元(B):由在構成環的碳原子和不構成環的碳原子之間具備聚合性雙鍵的單體、或在2個構成環的碳原子之間具備聚合性雙鍵的單體的聚合而形成的單元;
單元(C):由全氟烯烴或含有氟原子以外的鹵素原子的全氟烯烴的聚合而形成的單元;
單元(D):由全氟乙烯基醚類單體的聚合而形成的單元。
4.如權利要求3所述的塑料光纖,其特征在于,所述含氟聚合物(c)是以摩爾%30~75∶20~50∶5~33具有所述單元(A)∶(B)∶(C)的由所述單元(A)和單元(B)和單元(C)構成的共聚物、以摩爾%30~70∶20~50∶1~20具有單元(A)∶(B)∶(D)的由所述單元(A)和單元(B)和單元(D)構成的共聚物、或以摩爾%30~70∶20~50∶5~30∶1~19具有單元(A)∶(B)∶(C)∶(D)的由所述單元(A)和單元(B)和單元(C)和單元(D)構成的共聚物。
5.如權利要求3所述的塑料光纖,其特征在于,所述含氟聚合物(c)是以摩爾%17~75∶20~50∶5~33具有所述單元(A)∶(B)∶(C)的由所述單元(A)和單元(B)和單元(C)構成的共聚物、以摩爾%40~65∶20~40∶5~20具有單元(A)∶(B)∶(D)的由所述單元(A)和單元(B)和單元(D)構成的共聚物、或以摩爾%1~74∶20~50∶5~30∶1~19具有單元(A)∶(B)∶(C)∶(D)的由所述單元(A)和單元(B)和單元(C)和單元(D)構成的共聚物。
6.如權利要求1或2所述的塑料光纖,其特征在于,所述含氟聚合物(c)為由所述單元(B)和單元(C)構成的共聚物。
7.如權利要求6所述的塑料光纖,其特征在于,所述含氟聚合物(c)為以摩爾%50~95∶5~50具有所述單元(B)∶(C)的由所述單元(B)和單元(C)構成的共聚物。
8.如權利要求1~7中任一項所述的塑料光纖,其特征在于,所述含氟聚合物(c)的折射率比所述含氟聚合物(a)的折射率低0.003以上。
9.如權利要求1~8中任一項所述的塑料光纖,其特征在于,所述含氟聚合物(a)為僅具有由具有2個以上聚合性雙鍵的含氟單體的環化聚合而形成的單元的聚合物。
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