[發明專利]一種在現有窗框中安裝真空絕緣玻璃VIG窗單元的方法和將非真空絕緣玻璃替換成真空絕緣玻璃的方法

在審

• 申請號: 201380046204.2
• 申請日: 2013-06-24
• 公開（公告）號: CN104603384A
• 公開（公告）日: 2015-05-06
• 發明（設計）人: 杰弗里·A.·瓊斯
• 申請（專利權）人: 葛迪恩實業公司
• 主分類號: E06B3/58
• 分類號: E06B3/58;E06B3/66
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 劉培培;黎艷

技術領域

本公開涉及一種真空絕緣玻璃(VIG)窗單元安裝配置，以及方法用于將VIG窗單元安裝在現有的窗框配置中或新的窗結構中。本公開特別是涉及一種窗框的配置和其中的組件，在安裝不同的窗類型期間，可使VIG窗單元被安裝而無需在去除和/或替換先前使用的整個窗框，例如，相比VIG窗單元具有較大截面寬度的多窗格的非真空絕緣玻璃單元。本公開涉及一種窗銷的結構布置，與現有的窗框一起使用，從而所述銷彌補多窗格的非真空絕緣玻璃窗單元和VIG窗單元的截面寬度的差異，使多窗格的絕緣玻璃(IG)窗單元被替換成較薄的VIG窗單元，而無需替換整個窗框和/或整個窗支撐結構。本公開還涉及一種將絕緣玻璃(IG)窗單元替換成VIG窗單元的方法。本公開并不僅局限于將IG窗替換成VIG窗，其也可涉及一種為新VIG窗單元所設計的窗框和窗銷結構。

背景和示例性實施例概述

真空絕緣玻璃VIG單元通常包括兩個分離的玻璃基片，其中附有排空或低壓空間/腔。上述基片由外邊緣密封互相連接并通常包括隔離片/墊片，位于玻璃基片之間，來保持玻璃基片之間的間距，防止由于基片之間的低壓環境而造成的玻璃基片損毀。一些示例性VIG配置在類似美國專利Nos.5,657,607,5,664,395,5,657,607,5,902,652,6,506,472和6,383,580中被公開，在此其公開的內容被納入此處作為參照。

圖1和圖2示出現有的VIG單元1和用于形成VIG單元1的元件。例如VIG單元1可包括兩個分離的玻璃基片2、3，其中附有排空的低壓空間/腔6。玻璃片或基片2、3由外邊緣密封4互相連接，其可由熔融焊料玻璃或類似等被制成。玻璃基片2、3之間可包括一組支承柱/隔離片5，鑒于基片2、3之間存在的低壓空間/間隙，來維持VIG單元1的基片2、3的間距。

泵出管8可通過焊料玻璃9或類似等被氣密密封至空穴/孔10，從玻璃基片2的內表面通向玻璃基片2外表面中的凹槽11底部，或選擇性地至玻璃基片2的外表面。真空被連接至泵出管8，將內部腔6排空至低于大氣壓力的低壓，例如，使用連續的泵送操作。在腔6排空后，管8的部分(例如，頂端)被熔化來密封低壓腔/空間6中的真空。凹槽11用來固定密封的泵出管8。選擇性地，凹槽13中可包括化學吸氣劑12，其配置在玻璃基片，例如，玻璃基片2的內表面中。化學吸氣劑12可用來吸收或混合腔6被排空和密封之后剩下的殘余雜質。

通常，具熔融焊料玻璃外邊緣密封4的VIG單元，通過在基片2的外圍沉積溶液狀(例如，熔塊漿)的玻璃熔塊或其他合適的材料被制造。該玻璃熔塊漿最終形成邊緣密封4。其他基片(例如基片3)被配置在基片2上，從而將隔離片/支承柱5和玻璃熔塊溶液夾在兩個基片2，3之間。整個組件包括玻璃基片2，3、隔離片/支承柱5、和密封材料(例如，溶液狀或漿狀的玻璃熔塊)，然后加熱到至少約500℃的溫度，此時玻璃熔塊被熔化弄濕玻璃基片2，3的表面，并最終形成氣密密封的外圍/邊緣密封4。

邊緣密封4形成之后，真空通過泵出管8被抽出，在基片2，3之間形成低壓空間/腔6。空間6中的壓力可通過排空處理方式產生且水平低于大氣壓力，例如10^-2Torr以下。為了在空間/腔6中維持低壓力，基片2，3可通過邊緣密封和泵出管的封閉被氣密密封。在透明的玻璃基片之間提供小的高強度隔離片/支承柱5，以維持基本平行的玻璃基片的分離來對抗大氣壓力。當基片2，3之間的空間6被排空，泵出管8可被密封，例如，通過激光熔化或類似等來其頂端熔融。

相比典型的多窗格的非真空絕緣玻璃窗單元(例如，兩個、三個、四個窗格的絕緣玻璃窗單元)，VIG窗單元通常是更高效的絕緣體。此外VIG窗單元明顯比非真空絕緣玻璃窗(以下稱IG絕緣玻璃)單元要薄。由于該厚度的不同，典型的窗安裝結構，例如，窗框，可能需要完全地被重新設計，才可有效地利用并接收VIG窗單元。為了更有效地將現有的絕緣玻璃窗單元替換成高效、更薄、更高性能的VIG窗單元，可能需要替換整個窗框以及修改窗框周圍框架結構。盡管VIG窗單元具有許多好處和優點，但特別是對于現有的大樓或小規模制造商來說，重新設計窗結構和替換窗框非常昂貴及費時，并可能會造成VIG窗單元的采用速度慢。