[發明專利]在光療期間選擇性地照亮嬰兒的系統及方法有效
| 申請號: | 201380045951.4 | 申請日: | 2013-09-02 |
| 公開(公告)號: | CN104619380B | 公開(公告)日: | 2017-06-16 |
| 發明(設計)人: | V·V·馬卡帕蒂;A·S·雷克爾;S·烏爾曼 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61N5/06 | 分類號: | A61N5/06;A61G11/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司72002 | 代理人: | 王英,劉炳勝 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光療 期間 選擇性 照亮 嬰兒 系統 方法 | ||
1.一種針對嬰兒的光療系統,所述系統包括:
準直器(15a)的陣列(15);
光源的集合(20),其中,所述光源的集合被配置并布置為使得,響應于所述光療系統被布置為合適地接近嬰兒,由所述光源的集合中的子集發射的電磁輻射被引導通過所述準直器的陣列以撞擊在所述嬰兒上;
一個或多個傳感器(142),其生成一個或多個輸出信號,所述一個或多個輸出信號傳達與所述嬰兒的位置有關的信息;以及
一個或多個處理器(110),其被配置為運行計算機程序模塊,所述計算機程序模塊包括:
位置模塊(111),其被配置為確定嬰兒的所述位置,其中,所述確定是基于來自所述一個或多個傳感器的信息的;以及
光模塊(112),其被配置為基于所確定的所述嬰兒的位置來控制所述電磁輻射在所述嬰兒上的撞擊;
其中,所述嬰兒具有面部,并且其中,所述位置模塊被配置為確定將對電磁輻射在所述嬰兒的所述面部上或所述面部附近的撞擊貢獻最多的光源的目標子集,并且其中,所述光模塊被配置為通過調節所述光源的目標子集的一個或多個設置來控制所述電磁輻射在所述嬰兒的所述面部上或所述面部附近的撞擊。
2.如權利要求1所述的系統,其中,所述準直器的陣列被配置為使得被引導通過個體準直器的電磁輻射的錐體的橫截面在距從所述個體準直器的脫離的點小于1m的各距離上的直徑小于3cm。
3.如權利要求1所述的系統,其中,所述一個或多個傳感器包括相機(141)。
4.如權利要求1所述的系統,其中,所述準直器的陣列被配置為使得所述準直器的陣列的所述準直器中的一個或多個個體準直器能夠選擇性地關閉,并且其中,所述光模塊被配置為基于所確定的所述嬰兒的位置來選擇性地關閉所述準直器中的一個或多個個體準直器而控制電磁輻射的撞擊。
5.如權利要求1所述的系統,其中,所述準直器中的一個或多個個體準直器包括反射管,所述反射管被配置為引導所述電磁輻射。
6.一種控制準直器的陣列中的個體準直器的方法,所述方法包括:
由一個或多個傳感器生成一個或多個輸出信號,所述一個或多個輸出信號傳達與嬰兒的位置有關的信息;
基于所述一個或多個輸出信號來確定所述嬰兒的所述位置;
由光源的集合的子集發射電磁輻射;
引導所發射的電磁輻射通過所述準直器的陣列以撞擊在所述嬰兒上;以及
基于所確定的所述嬰兒的位置來控制所述電磁輻射在所述嬰兒上的撞擊;
其中,所述嬰兒具有面部,所述方法還包括:
確定將對電磁輻射在所述嬰兒的所述面部上或所述面部附近的撞擊貢獻最多的光源的目標子集,
其中,控制所述電磁輻射在所述嬰兒上的所述撞擊包括通過調節所述光源的目標子集的一個或多個設置來控制在所述嬰兒的所述面部上或所述面部附近的撞擊。
7.如權利要求6所述的方法,其中,來自所述準直器的陣列的個體準直器被配置為使得被引導通過所述個體準直器的電磁輻射的錐體的橫截面在距從所述個體準直器脫離的點小于1m的各距離上的直徑小于3cm。
8.如權利要求6所述的方法,其中,所述一個或多個傳感器包括相機。
9.如權利要求6所述的方法,其中,所述準直器的陣列的所述準直器中的一個或多個個體準直器能夠選擇性地關閉,并且其中,控制所述電磁輻射在所述嬰兒上的撞擊包括基于所確定的所述嬰兒的位置來選擇性地關閉所述準直器中的一個或多個個體準直器。
10.如權利要求6所述的方法,其中,所述準直器中的一個或多個個體準直器包括反射管,所述反射管被配置為引導所述電磁輻射。
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