[發明專利]吸乳泵系統中的致動器控制有效
| 申請號: | 201380045811.7 | 申請日: | 2013-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN104602722A | 公開(公告)日: | 2015-05-06 |
| 發明(設計)人: | A·阿爾德斯;M·D·A·比杰羅;A·C·吉林斯;G·G·W·伯倫;T·J·A·M·登貝克 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61M1/06 | 分類號: | A61M1/06;A61M1/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 王茂華 |
| 地址: | 荷蘭艾恩*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸乳泵 系統 中的 致動器 控制 | ||
1.一種吸乳泵系統,包括:
泵單元;
用于驅動所述泵單元的致動器;以及
被設置成將電功率供給至所述致動器的電源;
其特征在于,還包括
致動器速度調節模塊,被設置成:當所述泵單元被接通時以第一速度驅動所述致動器,并且在所述致動器上的負載到達預定水平之后以高于所述第一速度的第二速度繼續驅動所述致動器。
2.根據權利要求1所述的吸乳泵系統,其中所述電源被設置成利用脈寬調制PWM將所述電功率供給至所述致動器,并且被設置成通過供給具有第一占空比的所述電功率來供給第一電壓并且通過供給具有高于所述第一占空比的第二占空比所述電功率來供給第二電壓。
3.根據權利要求1或2所述的吸乳泵系統,其中所述電源被設置成在預定時間段期間將所述第一電壓逐漸地增加到所述第二電壓。
4.根據權利要求1、2或3所述的吸乳泵系統,進一步包括:
電源控制模塊,被設置成對供給至所述致動器的輸入電流進行檢測,并且響應于檢測到的輸入電流超過指示吸乳泵處的閾值真空水平的閾值電流水平而降低所述致動器的速度。
5.根據權利要求4所述的吸乳泵系統,其中所述電源控制模塊被設置成中止至所述致動器的電功率供給以便降低所述致動器的速度。
6.根據權利要求4或5所述的吸乳泵系統,其中所述泵單元進一步包括:
真空泵,以及
用于釋放由所述真空泵產生的真空的閥,
其中響應于檢測到的輸入電流超過所述閾值電流水平,所述電源控制模塊被進一步設置成指示出所述閥的故障。
7.根據權利要求4、5或6所述的吸乳泵系統,其中所述電源被設置成根據占空比利用脈寬調制PWM將所述電功率供給至所述致動器,并且所述電源控制模塊被設置成通過將所述PWM占空比設定為大致零而中止至所述致動器的電功率供給。
8.根據前述權利要求中的任一項所述的吸乳泵系統,進一步包括:
電源控制模塊,被設置成將所述電源控制為:當所述泵單元被接通時將第一電壓供給至所述致動器,并且在所述致動器被接通后的預定時間段之后將高于所述第一電壓的第二電壓供給至所述致動器。
9.根據權利要求8所述的吸乳泵,其中所述第二預定時間段是用于由所述泵單元產生的壓力差到達預定水平所花費的時間。
10.根據任一前述權利要求所述的吸乳泵系統,進一步包括:
吸乳泵,其具有
腔室,以及
隔膜,所述隔膜能接納在所述腔室內以將所述腔室分成第一空間和第二空間,
其中所述隔膜能響應于所述第一空間內的壓力的降低而變形以引起所述第二空間內的壓力的降低,并且
所述腔室的可與所述隔膜接觸的表面和/或所述隔膜的可與所述腔室接觸的表面具有紋理表面光潔度,使得在所述隔膜與所述腔室接觸、沿著所述腔室移動或者遠離所述腔室移動時所產生的噪聲水平最小化。
11.根據權利要求10所述的吸乳泵系統,其中所述腔室包括側壁,所述隔膜在變形之前和/或期間抵著所述側壁定位,具有所述紋理表面光潔度的所述表面由所述側壁和/或可與所述側壁接觸的隔膜的部分形成。
12.根據權利要求10所述吸乳泵系統,其中所述表面具有算術平均粗糙度(Ra)在Ra?0.4μm與Ra?3.2μm之間的紋理表面光潔度。
13.一種用于在吸乳泵系統中使用的方法,所述吸乳泵系統包括泵單元、用于驅動所述泵單元的致動器和被設置成將電功率供給至所述致動器的電源,所述方法的特征在于:
當所述泵單元被接通時以第一速度驅動所述致動器;以及
在所述致動器上的負載到達預定水平之后,以高于所述第一速度的第二速度繼續驅動所述致動器。
14.根據權利要求13所述的方法,進一步包括:
對供給至所述致動器的輸入電流進行檢測;以及
響應于檢測出的輸入電流超過指示吸乳泵處的閾值真空水平的閾值電流水平,降低所述致動器的速度。
15.根據權利要求13或14所述的方法,進一步包括:
當所述泵單元被接通時通過將第一電壓供給至所述致動器來供給所述電功率;以及
在所述致動器被接通后的預定時間段之后將高于所述第一電壓的第二電壓供給至所述致動器。
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