[發(fā)明專利]放射線圖像變換面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380045526.5 | 申請日: | 2013-08-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104603639B | 公開(公告)日: | 2017-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 櫻井純;鈴木克彥;清水一伸;上村剛士 | 申請(專利權(quán))人: | 浜松光子學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G01T1/20 | 分類號(hào): | G01T1/20;G21K4/00 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11322 | 代理人: | 楊琦 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 放射線 圖像 變換 面板 | ||
1.一種放射線圖像變換面板,其特征在于:
具備:
支撐體,其具有可撓性;
輝盡性熒光體層,其設(shè)置在所述支撐體的主面上,并由多個(gè)柱狀結(jié)晶構(gòu)成;
第1保護(hù)膜,其設(shè)置在所述輝盡性熒光體層上;以及
第2保護(hù)膜,其設(shè)置在所述第1保護(hù)膜上,
所述輝盡性熒光體層由包含摻雜了Eu的CsBr的輝盡性熒光體構(gòu)成,
所述第1保護(hù)膜以覆蓋所述輝盡性熒光體層的上面和側(cè)面且在所述輝盡性熒光體層中填埋所述多個(gè)柱狀結(jié)晶的間隙的方式設(shè)置,
所述第1保護(hù)膜以包圍所述支撐體和所述輝盡性熒光體層的整體的方式形成,并且所述第2保護(hù)膜在所述支撐體的側(cè)面、所述輝盡性熒光體層的側(cè)面以及所述輝盡性熒光體層的表面形成于所述第1保護(hù)膜上,
所述第2保護(hù)膜的鉛筆硬度在所述第1保護(hù)膜的鉛筆硬度以下,
具有彎曲直至曲率半徑為15mm也不會(huì)產(chǎn)生所述第2保護(hù)膜的破裂的可撓性。
2.如權(quán)利要求1所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述支撐體由樹脂薄膜構(gòu)成。
3.如權(quán)利要求1所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述支撐體由聚酰亞胺構(gòu)成。
4.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述第1保護(hù)膜是耐濕性的保護(hù)膜。
5.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述第1保護(hù)膜由聚對二甲苯構(gòu)成。
6.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述第2保護(hù)膜是耐擦傷性的保護(hù)膜。
7.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述第2保護(hù)膜由聚氨酯丙烯酸類樹脂構(gòu)成。
8.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
還具備設(shè)置在與所述支撐體的所述主面相反側(cè)的所述支撐體的背面的激勵(lì)光吸收層。
9.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述輝盡性熒光體層在所述支撐體側(cè)具有所述柱狀結(jié)晶螺旋狀層疊而成的螺旋構(gòu)造。
10.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
還具備設(shè)置在所述支撐體與所述輝盡性熒光體層之間的輝盡發(fā)光反射層。
11.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
還具備設(shè)置在與所述支撐體的所述主面相反側(cè)的所述支撐體的背面的第3保護(hù)膜,
所述第3保護(hù)膜是耐擦傷性的保護(hù)膜。
12.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述放射線圖像變換面板為在口腔內(nèi)使用的牙科用成像板。
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