[發(fā)明專利]放射線圖像變換面板無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380045508.7 | 申請日: | 2013-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN104584138A | 公開(公告)日: | 2015-04-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 櫻井純;鈴木克彥;清水一伸;上村剛士 | 申請(專利權(quán))人: | 浜松光子學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號: | G21K4/00 | 分類號: | G21K4/00 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人: | 楊琦 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 放射線 圖像 變換 面板 | ||
1.一種放射線圖像變換面板,其特征在于:
具備:
支撐體;
輝盡性熒光體層,其設(shè)置在所述支撐體的表面上,并由多個(gè)柱狀結(jié)晶構(gòu)成;以及
第1激勵(lì)光吸收層,其設(shè)置在所述輝盡性熒光體層上,
所述多個(gè)柱狀結(jié)晶各自具有在所述支撐體側(cè)螺旋狀地層疊而成的螺旋構(gòu)造部、以及從所述螺旋構(gòu)造部向所述第1激勵(lì)光吸收層延伸而成的柱狀部,
所述輝盡性熒光體層蓄積入射的放射線,經(jīng)由所述第1激勵(lì)光吸收層而照射有激勵(lì)光,由此將與蓄積的放射線對應(yīng)的光經(jīng)由所述第1激勵(lì)光吸收層射出。
2.如權(quán)利要求1所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
還具備隔著所述輝盡性熒光體層而與所述第1激勵(lì)光吸收層相對的第2激勵(lì)光吸收層。
3.如權(quán)利要求2所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述第2激勵(lì)光吸收層設(shè)置在所述支撐體與所述輝盡性熒光體層之間。
4.如權(quán)利要求2所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述第2激勵(lì)光吸收層設(shè)置在與所述支撐體的所述表面相反側(cè)的所述支撐體的背面。
5.如權(quán)利要求2~4中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述第2激勵(lì)光吸收層在所述輝盡性熒光體層中吸收被輝盡發(fā)光的光。
6.一種放射線圖像變換面板,其特征在于:
具備:
支撐體,其具有激勵(lì)光吸收性;
輝盡性熒光體層,其設(shè)置在所述支撐體的表面上,并由多個(gè)柱狀結(jié)晶構(gòu)成;以及
第1激勵(lì)光吸收層,其設(shè)置在所述輝盡性熒光體層上,
所述多個(gè)柱狀結(jié)晶各自具有在所述支撐體側(cè)螺旋狀地層疊而成的螺旋構(gòu)造部、以及從所述螺旋構(gòu)造部向所述第1激勵(lì)光吸收層延伸而成的柱狀部,
所述輝盡性熒光體層蓄積入射的放射線,經(jīng)由所述第1激勵(lì)光吸收層照射有激勵(lì)光,由此將與蓄積的放射線對應(yīng)的光經(jīng)由所述第1激勵(lì)光吸收層射出。
7.如權(quán)利要求6所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述支撐體在所述輝盡性熒光體層中吸收被輝盡發(fā)光的光。
8.如權(quán)利要求1~7中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述第1激勵(lì)光吸收層是保護(hù)所述輝盡性熒光體層的耐濕性保護(hù)膜。
9.如權(quán)利要求1~8中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述輝盡性熒光體層由包含摻雜了Eu的CsBr的輝盡性熒光體構(gòu)成。
10.如權(quán)利要求1~9中的任一項(xiàng)所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述第1激勵(lì)光吸收層以覆蓋所述輝盡性熒光體層的表面和側(cè)面的方式設(shè)置。
11.如權(quán)利要求10所述的放射線圖像變換面板,其特征在于:
所述第1激勵(lì)光吸收層以覆蓋所述支撐體的側(cè)面的方式設(shè)置。
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