[發明專利]制造噁唑化合物的方法

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• 申請號: 201380045266.1
• 申請日: 2013-08-29
• 公開（公告）號: CN104603116A
• 公開（公告）日: 2015-05-06
• 發明（設計）人: 岡田稔;株木隆志;藤枝茂男;古關直
• 申請（專利權）人: 大塚制藥株式會社
• 主分類號: C07D263/32
• 分類號: C07D263/32
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍;牛蔚然

1.式(12)所示的化合物，

其中，R¹是低級烷基或被鹵素取代的低級烷基；R²是低級烷基。

2.權利要求1所述的化合物，其中，在式(12)中，R¹是甲基或二氟甲基；R²是甲基、異丙基或異丁基。

3.一種用于制造式(12)所示的化合物的方法，

其中，R¹是低級烷基或被鹵素取代的低級烷基；R²是低級烷基；R⁵是低級烷基；R¹¹是低級烷基、被鹵素取代的低級烷基或式-CY₂COOR¹²所示的基團，其中Y是鹵原子，R¹²是堿金屬原子或低級烷基；X²和X³相同或不同，并為鹵原子；

所述方法包括下述步驟：

(a)將式(6)所示的化合物與式(7)所示的化合物反應、或與鹵化試劑及式(21)所示的化合物反應，得到式(8)所示的化合物；

(b)將式(8)所示的化合物去芐基化，得到式(9)所示的化合物；

(c)在堿的存在下，將式(9)所示的化合物與式(10)所示的化合物反應，得到式(11)所示的化合物；和

(d)還原式(11)所示的化合物，得到式(12)所示的化合物。

4.如權利要求3所述的用于制造式(12)所示的化合物的方法，其中，式(6)所示的化合物通過下述工藝制造，

其中X¹是鹵原子，R²如上文定義，

所述工藝包括下述步驟：

(a’)在堿的存在下，將式(3)所示的化合物與式(4)所示的化合物反應，得到式(3’)所示的化合物；

(b’)水解式(3’)所示的化合物，得到式(5)所示的化合物；和

(c’)將式(5)所示的化合物與氨進行縮合反應(酰胺化)，得到式(6)所示的化合物。

5.一種用于制造式(1)所示的化合物的方法，

其中，R¹是低級烷基或被鹵素取代的低級烷基；R²是低級烷基；R⁵是低級烷基；R¹¹是低級烷基、被鹵素取代的低級烷基或式-CY₂COOR¹²所示的基團，其中Y是鹵原子，R¹²是堿金屬原子或低級烷基；Ar¹是被選自由低級烷基、被鹵素取代的低級烷基、低級烷氧基和被鹵素取代的低級烷氧基組成的組中的至少一個取代基取代的苯基，或是被選自由低級烷基、被鹵素取代的低級烷基、低級烷氧基和被鹵素取代的低級烷氧基組成的組中的至少一個取代基取代的吡啶基；X²、X³和X⁹相同或不同，并為鹵原子；X⁴是離去基團；M是堿金屬原子，

所述方法包括下述步驟：

(a)將式(6)所示的化合物與式(7)所示的化合物反應、或與鹵化試劑及式(21)所示的化合物反應，得到式(8)所示的化合物；

(b)將式(8)所示的化合物去芐基化，得到式(9)所示的化合物；

(c)在堿的存在下，將式(9)所示的化合物與式(10)所示的化合物反應，得到式(11)所示的化合物；和

(d)還原式(11)所示的化合物，得到式(12)所示的化合物；

(e)將式(12)所示的化合物的羥基轉化為離去基團(X⁴)，得到式(13)所示的化合物；

(f)將式(13)所示的化合物與式(14)所示的化合物反應，得到式(15)所示的化合物；

(g)將式(15)所示的化合物與甲胺反應，得到式(16)所示的化合物；和

(h)將式(16)所示的化合物與式(17)所示的化合物或式(17’)所示的化合物進行縮合反應，得到式(1)所示的化合物。