[發(fā)明專利]樹脂組合物、抗蝕劑膜、圖案形成方法、用于制造電子器件的方法、電子器件和化合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380045257.2
• 申請日: 2013-08-16
• 公開（公告）號: CN104583866B
• 公開（公告）日: 2018-10-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 后藤研由;澀谷明規(guī);片岡祥平;山口修平;松田知樹;加藤啟太
• 申請（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;C07D279/12;C07D327/06;C07D411/04;G03F7/039
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 賀衛(wèi)國

1.一種光化射線敏感或放射線敏感樹脂組合物，所述光化射線敏感或放射線敏感樹脂組合物包含由式(1)表示的化合物：

其中R₁表示取代或未取代的萘基、薁基、苊基、菲基、萉基、菲基、芴基、蒽基、芘基、苯并芘基、聯(lián)苯基、吖啶基、呫噸基、咔唑基、吲哚基、苯并吡喃基、二氫萘吡喃基、苯并噻唑基、苯并唑基、苯并呋喃基、二苯并呋喃基、二氫苯并呋喃基、苯并噻吩基、二氫苯并噻吩基、色滿基、硫代色滿基、苯并二英基、二苯并二烷基、酚黃素基、二苯并-1,4-二噻烷基、吩噻嗪基、二苯并噻吩基，

R₂表示(n+2)價的飽和的烴基，

R₃表示(m+2)價的飽和的烴基，

R₄和R₅各自獨立地表示取代基，

Q表示含有雜原子的連接基團(tuán)，

m和n各自獨立地表示0至12的整數(shù)，當(dāng)n為2以上時，多個R₄可以是相同的或不同的，多個R₄可以相互連接與R₂一起形成非芳族環(huán)，當(dāng)m為2以上時，多個R₅可以是相同的或不同的，且多個R₅可以相互連接與R₃一起形成非芳族環(huán)，且

X^-表示非親核陰離子。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光化射線敏感或放射線敏感樹脂組合物，

其中在式(1)中，Q是選自由以下連接基團(tuán)組成的組(G)中的任何一個連接基團(tuán)：

其中R₆表示氫原子或取代基，

p表示0至2的整數(shù)，且

*表示連接至式(1)中的R₂或R₃的結(jié)合手。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光化射線敏感或放射線敏感樹脂組合物，

其中在式(1)中，X^-是由式(2)表示的非親核陰離子：

其中在式(2)中，多個Xf各自獨立地表示氟原子或被至少一個氟原子取代的烷基，

R₇和R₈各自獨立地表示氫原子、氟原子、烷基或被至少一個氟原子取代的烷基，當(dāng)存在多個R₇時，多個R₇可以是相同的或不同的，并且當(dāng)存在多個R₈時，多個R₈可以是相同的或不同的，

L表示二價連接基團(tuán)，并且當(dāng)存在多個L時，多個L可以是相同的或不同的，

A表示含有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的有機基團(tuán)，

x表示1至20的整數(shù)，

y表示0至10的整數(shù)，且

z表示0至10的整數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光化射線敏感或放射線敏感樹脂組合物，

其中，當(dāng)通過(由式(1)表示的化合物中所含的全部氟原子的質(zhì)量之和)/(由式(1)表示的化合物中所含的全部原子的質(zhì)量之和)計算時，由式(1)表示的化合物的氟含量為0.25以下。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光化射線敏感或放射線敏感樹脂組合物，

其中在式(1)中，R₁表示萘基。