[發明專利]偏振光分離元件的制造方法以及偏振光分離元件有效
| 申請號： | 201380045158.4 | 申請日： | 2013-08-29 |
| 公開（公告）號： | CN104583822B | 公開（公告）日： | 2017-12-12 |
| 發明（設計）人： | 鄭鎮美;李鐘炳;辛富建;金在鎮 | 申請（專利權）人： | LG化學株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/30 | 分類號： | G02B5/30;G02B5/20;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京鴻元知識產權代理有限公司11327 | 代理人： | 李靜,黃麗娟 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 偏振光 分離 元件 制造 方法 以及 | ||
1.一種偏振光分離元件的制造方法，包括：通過在將一個表面上形成有包含金屬前體H3AlO(C4H9)2的溶液層的第一基底和一個表面上形成有凹-凸層的第二基底進行層合以分別面向所述包含金屬前體H3AlO(C4H9)2的溶液層和所述凹-凸層的狀態下，將金屬前體H3AlO(C4H9)2轉變為金屬，在第二基底上形成兩個以上具有條紋形狀并且平行設置的金屬凸部。
2.如權利要求1所述的方法，其中，所述金屬前體在包含該金屬前體的溶液中的濃度在0.1wt％到30wt％的范圍內。
3.如權利要求1所述的方法，其中，所述金屬前體溶液包含醚或醇。
4.如權利要求1所述的方法，其中，形成所述金屬凸部，使得平行的該金屬凸部的間距在80nm到400nm的范圍內。
5.如權利要求4所述的方法，其中，形成所述金屬凸部，使得該金屬凸部的高度H與間距P之比H/P在0.2到1.5的范圍內。
6.如權利要求1所述的方法，其中，將所述金屬前體轉化為金屬包括：對該金屬前體進行加熱處理。
7.如權利要求1所述的方法，其中，所述凹-凸層的凹部涂布有催化劑。
8.如權利要求7所述的方法，其中，所述催化劑為鈦醇鹽、鈦鹵化物、鈦鹵化物的螯合物、鐵醇鹽、鹵化硅、鹵氧化釩、鈦硼氫化物或鈦硼氫化物的螯合物。
9.如權利要求7所述的方法，其中，所述催化劑為金屬或金屬復合物。
10.如權利要求9所述的方法，其中，所述金屬或金屬復合物包括選自Ti、Pd、Pt、Al、Cu、Si、Au和Fe的一種或多種金屬。
11.如權利要求1所述的方法，還包括：在形成所述金屬凸部后，去除所述凹-凸層。
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