[發(fā)明專利]用于識(shí)別物體表面中的偏差的方法和設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380044658.6
• 申請(qǐng)日: 2013-07-25
• 公開（公告）號(hào): CN104583715B
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: B·米切利斯;T·利林布魯姆;S·馮恩茨貝格
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: INB視覺(jué)股份公司
• 主分類號(hào): G01B21/04
• 分類號(hào): G01B21/04;G01B21/20;G06T17/30
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 范瑋

1.一種用于使用物體的表面(1)的測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)和預(yù)先指定的參考數(shù)據(jù)(A1)的比較來(lái)識(shí)別所述表面(1)的偏差(D3)的方法，

其特征在于，

借助所述預(yù)先指定的參考數(shù)據(jù)(A1)來(lái)創(chuàng)建所述表面(1)的至少部份性地參數(shù)化的描述作為目標(biāo)表面模型(D4)，以及借助所述目標(biāo)表面模型(D4)和所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)來(lái)執(zhí)行所述比較，其中使用統(tǒng)計(jì)方法、用參考數(shù)據(jù)(A1)的多個(gè)不同數(shù)據(jù)集合來(lái)從所述預(yù)先指定的參考數(shù)據(jù)(A1)確定所述目標(biāo)表面模型(D4)，其中所述預(yù)先指定的參考數(shù)據(jù)(A1)和/或所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)，在所述表面的所述至少部份性地參數(shù)化的描述的創(chuàng)建之前，借助至少一個(gè)過(guò)濾方法被過(guò)濾，和/或從所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)與所述目標(biāo)表面模型(D4)的所述比較計(jì)算出的差異數(shù)據(jù)借助所述至少一個(gè)過(guò)濾方法被過(guò)濾。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述參數(shù)化的目標(biāo)表面描述是樣條表面描述。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，分層的張量積B樣條表面被用作所述樣條表面描述。

4.如權(quán)利要求1到3中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，以觸覺(jué)方式、光學(xué)方式、和/或借助聲音來(lái)確定所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，以超聲和/或雷達(dá)來(lái)確定所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)。

6.如權(quán)利要求1到3中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，借助時(shí)間相關(guān)和/或相移方法的形式的光學(xué)攝影測(cè)量方法來(lái)確定所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，使用預(yù)定的圖案序列到所述表面(1)上的投影并且通過(guò)對(duì)經(jīng)投影的圖案序列的后續(xù)光學(xué)檢測(cè)來(lái)確定所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)。

8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述預(yù)定的圖案序列是正弦圖案序列。

9.如權(quán)利要求1到3中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，借助用參考數(shù)據(jù)(A1)的多個(gè)不同數(shù)據(jù)集合訓(xùn)練的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)來(lái)創(chuàng)建所述目標(biāo)表面模型(D4)，其中能夠從所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)創(chuàng)建所述表面的至少部份性地參數(shù)化的描述作為當(dāng)前表面模型，并且所述比較能夠通過(guò)所述目標(biāo)表面模型(D4)與所述當(dāng)前表面模型的模型比較來(lái)執(zhí)行。

10.如權(quán)利要求1到3中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，基于所述表面(1)的所述至少部份性地參數(shù)化的描述與所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)的至少一個(gè)測(cè)量點(diǎn)之間的正交距離來(lái)執(zhí)行所述比較。

11.如權(quán)利要求1到3中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，創(chuàng)建與所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)適配的目標(biāo)表面模型(D4)并且將所述目標(biāo)表面模型(D4)用于所述比較。

12.如權(quán)利要求1到3中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，借助相同的過(guò)濾方法來(lái)過(guò)濾所述預(yù)先指定的參考數(shù)據(jù)(A1)和所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)和/或所述測(cè)得數(shù)據(jù)(D1)與所述目標(biāo)表面模型(D4)之間的從所述比較計(jì)算出的差異數(shù)據(jù)。

13.如權(quán)利要求1到3中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，至少部分人工地借助模擬和/或借助測(cè)得參考數(shù)據(jù)的內(nèi)插來(lái)生成所述預(yù)先指定的參考數(shù)據(jù)(A1)。