[發明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法

有效

• 申請號: 201380044421.8
• 申請日: 2013-09-27
• 公開（公告）號: CN104584127B
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 東修平;輿水修
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;B24B31/112;B24B1/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,于靖帥

技術領域

本發明涉及磁盤用玻璃基板的制造方法，具體涉及包含研磨玻璃基板的端面的工序的磁盤用玻璃基板的制造方法。

背景技術

目前，在個人計算機、筆記本式個人計算機、或者DVD(Digital Versatile Disc)記錄裝置等中內設有用于數據記錄的硬盤裝置。尤其在筆記本式個人計算機等以可搬性為前提的設備所使用的硬盤裝置中，使用在磁盤用玻璃基板中設置了磁性層的磁盤。在磁盤的面上，利用從該面稍微浮起的磁頭(DFH(Dynamic Flying Height)頭)在磁盤的磁性層中記錄或者讀取磁記錄信息。該磁盤的基板由于與金屬基板等相比具有難以塑性變形的性質，因此優選使用玻璃基板。

目前，接受硬盤裝置中的存儲容量增大的需求，而實現磁記錄的高密度化。與此相伴，使磁頭的從磁記錄面的浮起距離極短而使磁記錄信息區域細微化。在這樣的磁盤用玻璃基板中，盡可能小地制造基板的表面凹凸。

在硬盤裝置所使用的磁頭中，當磁盤的表面存在微小的凹凸時，有可能產生公知的熱粗糙(Thermal Asperity)障礙，在再現中產生錯誤動作、或者不能再現。該熱粗糙障礙的原因是由如下情況引起的：在磁盤的表面上由玻璃基板上的異物形成的凸部因磁盤的高速旋轉而產生頭附近的空氣的絕熱壓縮以及絕熱膨脹，從而磁頭發熱。即，即使在磁頭不與磁盤接觸的情況下，也會產生熱粗糙障礙。

因此，為了防止該熱粗糙障礙，磁盤的表面需要極其平滑，并且，需要精加工為沒有異物的高清潔的面。

作為異物附著于磁盤用玻璃基板的表面的原因，不僅要考慮玻璃基板的表面形狀，還要考慮玻璃基板的端面的表面形狀。即，當磁盤用玻璃基板的端面的表面形狀不平滑時，該端面摩擦樹脂制殼體的壁面等，因該摩擦產生樹脂或玻璃微粒(顆粒)。并且，這樣的微粒和空氣中的微粒會被捕獲并累積在磁盤用玻璃基板的端面。累積在磁盤用玻璃基板的端面的微粒在后面工序中、或者在搭載于硬盤裝置后，成為灰塵產生源，成為異物附著于磁盤基板的表面的原因。此外，也存在如下的情況：累積在磁盤用玻璃基板的端面的微粒附著于磁頭的讀取元件或記錄元件而使元件損傷。尤其由于磁盤用玻璃基板的內周側的端面與外周側的端面相比表面形狀較粗，因此，容易補充微粒，認為是磁盤用玻璃基板的表面的高清潔化的障礙。

如下述專利文獻1所示，一般情況下使用刷子和研磨漿料對磁盤用玻璃基板的端面進行研磨，但是，在該研磨中，研磨力較小加工速率較慢，很難在短時間制造多個磁盤用玻璃基板。

另一方面，也公知有如下方法(專利文獻2)：通過向包含鐵氧體類磁性粒子與研磨磨粒的漿料施加磁場，而對磁盤用玻璃基板進行研磨。

具體而言，在向漿料施加磁場而進行研磨的方法中，在對作為磁盤用玻璃基板的材料的玻璃基板的中心部的圓孔的內周端面進行研磨的工序中，在圓孔的內周側形成磁場，在該圓孔內通過磁場保持漿料，使磁場相對于圓孔的內周側的端面移動，由此使研磨劑相對于圓孔的內周側的端面移動，而通過磁研磨法對圓孔的內周側的端面進行研磨。

更具體而言，成對的磁鐵由于設置在磁盤用玻璃基板的外周側和圓孔的內周側，因此由成對的磁鐵形成的磁力線沿著磁盤用玻璃基板的徑向。

現有專利文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平11-28649號公報

專利文獻2：日本特開2005-50501號公報

發明內容

發明要解決的課題

但是，在上述的磁盤用玻璃基板的磁研磨方法中，由于除了在磁盤用玻璃基板的圓孔的內周側，在外周側也設置磁鐵，因此，研磨對象的內周側端面與設置在外周側的磁鐵之間的距離增大。因此，存在如下問題：不能充分保持漿料，研磨的加工速率較小，無法實現高效地減小研磨對象的內周側端面的表面粗糙度。此外，在磁鐵的配置這方面，磁研磨中的裝置結構也很繁雜。此外，無法對磁盤用玻璃基板的外周側端面與內周側端面同時進行磁研磨。

因此，本發明的目的在于提供一種磁盤用玻璃基板的制造方法，在對作為磁盤用玻璃基板的玻璃基板進行研磨時，能夠比以往提高研磨的加工速率，能夠高效地進行研磨。

用于解決課題的手段

本發明包含以下的方式。

本發明的一個方式是制造磁盤用玻璃基板的方法。

[方式1]

該方法包含進行玻璃基板的端面研磨的工序，

在進行所述端面研磨的工序中，

使用磁產生單元形成在所述玻璃基板的厚度方向上行進的磁力線，