[發明專利]處置差分相襯成像中的未對準

有效

• 申請號: 201380044199.1
• 申請日: 2013-08-09
• 公開（公告）號: CN104582575B8
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發明（設計）人: G·福格特米爾;U·范斯特文達勒
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00;G01N23/20;G03F9/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 李光穎;王英

1.一種用于差分相襯成像的X射線成像系統(10)，包括：

-差分相襯設置(12)，其具有：

X射線源(14)；

X射線探測器(16)；以及

光柵布置，其包括源光柵(18)、相位光柵(20)和分析器光柵(22)，其中，所述源光柵被布置在所述X射線源與所述相位光柵之間，并且所述分析器光柵被布置在所述相位光柵與所述探測器之間；

-處理單元(24)；以及

-測量系統(26)，其用于確定所述光柵中的至少一個的未對準；

其中，所述X射線源和所述源光柵被提供為剛性X射線源單元(28)；并且其中，所述相位光柵、所述分析器光柵和所述探測器被提供為剛性X射線探測單元(30)；并且

其中，所述測量系統是光學測量系統，所述光學測量系統被配置為確定所述X射線源單元與所述X射線探測單元之間的所述差分相襯設置的未對準；

其中，所述處理單元被配置為基于所確定的未對準來提供校正信號(34)；

其中，所述測量系統包括在所述X射線探測單元的不同角處的至少三個傳感器(36)；

其中，所述至少三個傳感器被提供為至少三個4-象限光電二極管；

其中，光源設備被固定地附接到所述X射線源單元，所述X射線源單元被配置為生成到所述4-象限光電二極管中的每個的光束；并且

其中，所述4-象限光電二極管測量在所述探測器的平面中的移動以及相對于所述光束的角傾斜。

2.根據權利要求1所述的X射線成像系統，其中，所述至少三個傳感器被提供為用于對光源設備的相位測量的干涉儀，所述光源設備被固定地附接到所述X射線源單元，所述X射線源單元被配置為生成到所述干涉儀中的每個的光束。

3.根據權利要求2所述的X射線成像系統，其中，所述光源被配置為以經調制的信號的形式來提供光信號；并且

所述干涉儀被配置為探測光相位位移；

其中，針對相位分析，以下項被提供：

i)相關單元，其被配置為使來自所有干涉儀的所述信號相關；和/或

ii)耦合單元，其被配置為將所述光耦合入所述角處的光纖并且通過干涉儀設置和/或定時分析單元來測量所述相位位移；和/或

iii)測量單元，其被配置為測量所述4-象限光電二極管的所述強度位移，并且使來自所有4-象限光電二極管的所述信號相關。

4.根據權利要求2或3所述的X射線成像系統，其中，所述光源設備被提供為生成單個射束的單個光源(42)；并且

其中，分裂模塊(46)被提供用于將所述單個射束分裂為至少三個子射束。

5.根據權利要求1-3中的一項所述的X射線成像系統，其中，致動器(50)被提供用于對所述X射線源單元的至少一個光柵和/或所述X射線探測單元的至少一個光柵進行移動和對準；并且

其中，所述處理單元被配置為基于所述校正信號來計算針對所述致動器的激活信號，并且將所述激活信號傳遞到所述致動器。

6.根據權利要求5所述的X射線成像系統，其中，所述致動器被提供為：

i)壓電致動器，和/或

ii)馬達驅動的微米螺絲；

兩者都提供在大約1微米直到大約10微米的范圍中的移動。

7.根據權利要求1-3中的一項所述的X射線成像系統，

其中，校正單元(52)被提供用于校正由所述探測器提供的數據，以用于進一步的計算步驟；

其中，所述處理單元被配置為基于所述校正信號來計算校正系數；并且被配置為將所述校正系數傳遞到所述校正單元以用于評估計算，從而提供最終結果。