[發明專利]化合物太陽能電池及其制造方法有效
| 申請號: | 201380043997.2 | 申請日: | 2013-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN104603957B | 公開(公告)日: | 2017-09-15 |
| 發明(設計)人: | 寺地誠喜;河村和典;西井洸人;渡邊太一;山本祐輔 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | H01L31/032 | 分類號: | H01L31/032;H01L31/0749 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277 | 代理人: | 劉新宇,李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化合物 太陽能電池 及其 制造 方法 | ||
1.一種化合物太陽能電池,其特征在于,其為在基板上具備由I-III-VI族化合物半導體形成的化合物光吸收層、緩沖層和表面電極層的化合物太陽能電池,所述化合物光吸收層與緩沖層之間設置有由下述通式(1)所示組成的混晶形成的界面層,并且所述緩沖層為下述通式(2)所示組成的混晶,
Zn(Ox,S1-x)…(1)
其中,X為0.9<X≤1,
Zn(OY,S1-Y)…(2)
其中,Y為0.5≤Y<1。
2.一種化合物太陽能電池,其特征在于,其為在基板上具備由I-III-VI族化合物半導體形成的化合物光吸收層、緩沖層和表面電極層的化合物太陽能電池,所述化合物光吸收層與緩沖層之間設置有由下述通式(1)所示組成的混晶形成的界面層,并且所述緩沖層為下述通式(3)所示組成的混晶,
Zn(Ox,S1-x)…(1)
其中,X為0.9<X≤1,
(Znz,Mg1-z)O…(3)
其中,Z為0.5≤Z<1。
3.根據權利要求1或2所述的化合物太陽能電池,其中,在上述基板上直接具備上述化合物光吸收層。
4.根據權利要求1或2所述的化合物太陽能電池,其中,在上述基板與上述化合物光吸收層之間,具備背面電極層。
5.根據權利要求1或2所述的化合物太陽能電池,其中,在上述基板與上述化合物光吸收層之間,依次具備阻擋層和背面電極層。
6.根據權利要求1或2所述的化合物太陽能電池,其中,在上述基板與上述化合物光吸收層之間,依次具備背面電極層和阻擋層。
7.一種化合物太陽能電池的制造方法,其特征在于,所述化合物太陽能電池在基板上具備由I-III-VI族化合物半導體形成的化合物光吸收層、緩沖層和表面電極層,該方法具備如下工序:一邊使長條狀基板沿縱向方向移動,一邊在所述基板上形成由I-III-VI族化合物半導體形成的化合物光吸收層的工序;形成界面層的工序;形成緩沖層的工序;和形成表面電極層的工序,在真空下依次連續進行各工序,
所述界面層為下述通式(1)所示組成的混晶,所述緩沖層為下述通式(2)所示組成的混晶,
Zn(Ox,S1-x)…(1)
其中,X為0.9<X≤1,
Zn(OY,S1-Y)…(2)
其中,Y為0.5≤Y<1。
8.一種化合物太陽能電池的制造方法,其特征在于,所述化合物太陽能電池在基板上具備由I-III-VI族化合物半導體形成的化合物光吸收層、緩沖層和表面電極層,該方法具備如下工序:一邊使長條狀基板沿縱向方向移動,一邊在所述基板上形成由I-III-VI族化合物半導體形成的化合物光吸收層的工序;形成界面層的工序;形成緩沖層的工序;和形成表面電極層的工序,在真空下依次連續進行各工序,
所述界面層為下述通式(1)所示組成的混晶,所述緩沖層為下述通式(3)所示組成的混晶,
Zn(Ox,S1-x)…(1)
其中,X為0.9<X≤1,
(Znz,Mg1-z)O…(3)
其中,Z為0.5≤Z<1。
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H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





