[發明專利]用于以光學方式將結構傳輸到記錄介質中的方法有效
| 申請號： | 201380043823.6 | 申請日： | 2013-07-12 |
| 公開（公告）號： | CN104662477B | 公開（公告）日： | 2017-09-15 |
| 發明（設計）人： | H.哈特德根;M.米庫利茨 | 申請（專利權）人： | 于利奇研究中心有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 朱君,劉春元 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 光學 方式 結構 傳輸 記錄 介質 中的 方法 | ||
1.一種用于以光學方式將結構傳輸到記錄介質中的方法，所述記錄介質通過來自光子源的光子的照射能夠局部地從第一未寫狀態轉變為第二已寫狀態，其中所述記錄介質的兩種狀態在所述記錄介質的不同物理和/或化學特性中顯現，其特征在于，選擇至少一個具有少于每秒104個光子的光子流的光子源用于光子的照射。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述光子源在工作周期中運行，在所述工作周期中所述光子源發射在1至100之間的數量個光子。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，使所述光子源與所述記錄介質的工作間隔是1μm或者更少。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述光子源和所述記錄介質相對彼此移動。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其特征在于，選擇如下記錄介質，所述記錄介質在超過預先確定的閾值量個光子時才局部地從未寫狀態轉變到已寫狀態。
6.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其特征在于，對于光子平版印刷選擇光致抗蝕劑作為記錄介質。
7.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其特征在于，選擇由多個可單獨操控的光子源構成的裝置。
8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，在光柵中設置光子源，所述光柵具有100nm或者更小的光柵寬度。
9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述光柵具有50nm或者更小的光柵寬度。
10.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，運行每個光子源i的頻率和/或持續時間xi確定為方程組的解，在所述方程組中，在所述記錄介質上和/或所述記錄介質中的每個位置k照射的光子量Dk表達為貢獻dik(xi)的總和，其使每個光子源i承擔該光子量Dk。
11.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，在所述方程組中，貢獻dik(xi)表達為xi與從所述光子源i發射的單獨光子到達所述記錄介質上和/或所述記錄介質中的位置k的概率pik的乘積。
12.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，由光子源構成的裝置處于相對于所述記錄介質的n個不同位置，并且Dk表達為貢獻dikp(xip)的總和，該總和使在位置p=1…n的每個光子源i承擔該光子量Dk。
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