[發明專利]制備阻隔組件的方法在審
| 申請號: | 201380043533.1 | 申請日: | 2013-08-15 |
| 公開(公告)號: | CN104768753A | 公開(公告)日: | 2015-07-08 |
| 發明(設計)人: | A·K·納赫蒂加爾;A·T·拉夫;C·S·萊昂斯;G·D·喬利;J·C·斯帕格諾拉;M·D·韋格爾;M·D·德爾莫爾;S·基丹;T·P·科倫 | 申請(專利權)人: | 3M創新有限公司 |
| 主分類號: | B32B27/06 | 分類號: | B32B27/06;B32B27/30;C23C14/08 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 陳長會 |
| 地址: | 美國明*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 阻隔 組件 方法 | ||
1.一種形成阻隔組件的方法,所述方法包括:
提供襯底;
鄰近所述襯底施加聚合物材料以形成聚合物層;
鄰近所述聚合物層施加含氧化物的材料以形成氧化物層;
鄰近所述氧化物層施加保護材料以形成保護層;
移除所述保護層;以及
施加頂片。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述頂片包含粘合劑材料。
3.根據權利要求2所述的方法,其中所述粘合劑材料還包含紫外線吸收劑。
4.根據權利要求2或3所述的方法,其中所述粘合劑材料是壓敏粘合劑。
5.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中施加聚合物材料和施加含氧化物的材料的步驟依次被重復許多次以形成具有許多交替聚合物層和氧化物層的阻隔組件。
6.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中所述保護層包含(甲基)丙烯酸酯單體和/或低聚物中的至少一種。
7.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中所述保護層包含下列中的至少一種:聚氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、與苯乙烯共混的環氧(甲基)丙烯酸酯、雙-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化(3)三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化(3)三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、烷氧基化三官能(甲基)丙烯酸酯、雙丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化(4)雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、環狀二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羥基乙基)異氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、1,6-二丙烯酸己二醇酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,12-十二烷二醇二丙烯酸酯、以及由前述丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯形成的(甲基)丙烯酸酯化合物。
8.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中移除所述保護層涉及化學移除、熱移除、機械移除和光學移除中的至少一種。
9.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中移除所述保護層涉及化學溶解和反應中的至少一種。
10.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中移除所述保護層涉及剝離、刮擦和使用機械移除裝置中的至少一種。
11.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中所述保護層是多層構造并包括粘合劑層。
12.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中所述保護層鄰近真空中的所述氧化物層施加。
13.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中所述阻隔組件是柔性的并且是透光性的。
14.根據前述權利要求中任一項所述的方法,所述方法還包括:
鄰近所述氧化物層施加剝離劑以形成剝離劑層。
15.根據權利要求14所述的方法,其中所述剝離劑層在施加所述保護層之前施加。
16.根據權利要求14所述的方法,其中所述剝離劑層包含硅氧烷、氟化材料、可溶材料、烷基鏈中的至少一種以及它們的組合。
17.根據前述權利要求中任一項所述的方法,所述方法還包括:
形成阻隔組件的連續卷。
18.根據前述權利要求中任一項所述的方法,其中所述保護層包含剝離劑和單體。
19.一種光學裝置,其包括:
根據權利要求1至18中任一項所述的方法制備的阻隔組件。
20.一種光伏組件,其包括:
根據權利要求1至18中任一項所述的方法制備的阻隔組件。
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