[發(fā)明專利]描繪裝置、曝光描繪裝置及描繪方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380042958.0
• 申請(qǐng)日: 2013-04-25
• 公開（公告）號(hào): CN104641300B
• 公開（公告）日: 2017-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 菊池浩明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社阿迪泰克工程
• 主分類號(hào): G03F9/00
• 分類號(hào): G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027;H05K3/00
• 代理公司: 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11219
• 代理人: 權(quán)太白,謝麗娜

1.一種描繪裝置，具備：

取得構(gòu)件，取得表示設(shè)于被曝光基板的多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記的設(shè)計(jì)上的位置即第一位置的坐標(biāo)數(shù)據(jù)、表示以所述第一位置為基準(zhǔn)而確定的向所述被曝光基板描繪的描繪圖案的坐標(biāo)數(shù)據(jù)及表示所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記各自的實(shí)際的位置即第二位置的坐標(biāo)數(shù)據(jù)；

導(dǎo)出構(gòu)件，對(duì)所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記中的每一個(gè)，導(dǎo)出用于校正所述第一位置與所述第二位置的偏離的偏離校正量；

平均化構(gòu)件，將由所述導(dǎo)出構(gòu)件導(dǎo)出的所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記各自的偏離校正量設(shè)為對(duì)該基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量和最靠近該基準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量進(jìn)行平均化而得的值；以及

校正構(gòu)件，在以表示所述第二位置的坐標(biāo)數(shù)據(jù)為基準(zhǔn)而基于表示所述描繪圖案的坐標(biāo)數(shù)據(jù)向所述被曝光基板描繪所述描繪圖案的情況下，基于由所述平均化構(gòu)件平均化后的偏離校正量來(lái)校正表示所述描繪圖案的坐標(biāo)數(shù)據(jù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的描繪裝置，其中，

所述平均化構(gòu)件將由所述導(dǎo)出構(gòu)件導(dǎo)出的所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記各自的偏離校正量設(shè)為該基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量與最靠近該基準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量之差的二分之一的值。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的描繪裝置，其中，

所述平均化構(gòu)件將由所述導(dǎo)出構(gòu)件導(dǎo)出的所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記各自的偏離校正量設(shè)為該基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量與最靠近該基準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量之和的二分之一的值。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的描繪裝置，其中，

所述平均化構(gòu)件將由所述導(dǎo)出構(gòu)件導(dǎo)出的所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記各自的偏離校正量設(shè)為所述第一位置與所述第二位置的相關(guān)性越大則越增大該基準(zhǔn)標(biāo)記的權(quán)重并對(duì)該基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量和最靠近該基準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量進(jìn)行平均化而得的值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的描繪裝置，其中，

所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記在所述被曝光基板上被設(shè)置成矩陣狀，

所述平均化構(gòu)件將由所述導(dǎo)出構(gòu)件導(dǎo)出的所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記各自的相對(duì)于行方向的偏離校正量設(shè)為對(duì)該基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量和在行方向上與該基準(zhǔn)標(biāo)記相鄰的基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量進(jìn)行平均化而得的值，將由所述導(dǎo)出構(gòu)件導(dǎo)出的所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記各自的相對(duì)于列方向的偏離校正量設(shè)為對(duì)該基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量和在列方向上與該基準(zhǔn)標(biāo)記相鄰的基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量進(jìn)行平均化而得的值。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的描繪裝置，其中，

所述描繪圖案分別描繪于所述被曝光基板的多個(gè)區(qū)域，

所述基準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)于描繪所述描繪圖案的所述多個(gè)區(qū)域中的每一個(gè)，

所述平均化構(gòu)件將所述多個(gè)區(qū)域的每一個(gè)的所述偏離校正量設(shè)為進(jìn)行所述平均化而得的值。

7.一種曝光描繪裝置，具備：

權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的描繪裝置；和

曝光構(gòu)件，基于通過(guò)所述描繪裝置的所述校正構(gòu)件校正后的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，對(duì)所述被曝光基板曝光光束，由此描繪所述描繪圖案。

8.一種描繪方法，

(a)取得表示設(shè)于被曝光基板的多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記的設(shè)計(jì)上的位置即第一位置的坐標(biāo)數(shù)據(jù)、表示以所述第一位置為基準(zhǔn)而確定的向所述被曝光基板描繪的描繪圖案的坐標(biāo)數(shù)據(jù)及表示所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記各自的實(shí)際的位置即第二位置的坐標(biāo)數(shù)據(jù)，

(b)對(duì)所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記中的每一個(gè)，導(dǎo)出用于校正所述第一位置與所述第二位置的偏離的偏離校正量，

(c)將在所述(b)導(dǎo)出的所述多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記各自的偏離校正量設(shè)為對(duì)該基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量和最靠近該基準(zhǔn)標(biāo)記的基準(zhǔn)標(biāo)記的偏離校正量進(jìn)行平均化而得的值，

(d)在以表示所述第二位置的坐標(biāo)數(shù)據(jù)為基準(zhǔn)而基于表示所述描繪圖案的坐標(biāo)數(shù)據(jù)向所述被曝光基板描繪所述描繪圖案的情況下，基于在所述(c)平均化后的偏離校正量來(lái)校正表示所述描繪圖案的坐標(biāo)數(shù)據(jù)。