[發明專利]自旋馬達及自旋旋轉構件有效
| 申請號： | 201380041909.5 | 申請日： | 2013-07-25 |
| 公開（公告）號： | CN104584416B | 公開（公告）日： | 2017-05-03 |
| 發明（設計）人： | 廣畑貴文 | 申請（專利權）人： | 國立研究開發法人科學技術振興機構;約克大學 |
| 主分類號： | H02N11/00 | 分類號： | H02N11/00;H01L29/82 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司11021 | 代理人： | 海坤 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 自旋 馬達 旋轉 構件 | ||
1.一種自旋旋轉構件，其中，
該自旋旋轉構件具備：
基板；
自旋注入件，其設于所述基板上，且由在基板面內方向被磁化的強磁性體構成；
圓板狀的自旋轉子，其以與所述自旋注入件分離的方式設于所述基板上，且由磁矩能夠在基板面內方向旋轉的強磁性體構成；
通道部，其配置在所述自旋注入件與所述自旋轉子之間，且由直接或經由絕緣層與所述自旋注入件及所述自旋轉子接合的非磁性體構成；以及
自旋旋轉控制部，其控制所述通道部的自旋的旋轉方向，
所述自旋旋轉控制部使所述通道部的自旋的朝向根據時間在基板面內方向上以各旋轉規定角度的方式進行變更。
2.根據權利要求1所述的自旋旋轉構件，其中，
所述自旋旋轉控制部直接或經由絕緣層與所述通道部接合，朝向所述通道部施加電壓。
3.根據權利要求1所述的自旋旋轉構件，其中，
所述自旋旋轉控制部朝向所述通道部照射圓偏光。
4.根據權利要求1所述的自旋旋轉構件，其中，
所述自旋旋轉控制部變更朝向所述自旋注入件施加的電壓值。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的自旋旋轉構件，其中，
所述通道部由半導體材料形成。
6.根據權利要求1至4中任一項所述的自旋旋轉構件，其中，
所述通道部具有二維電子氣體層。
7.根據權利要求1至4中任一項所述的自旋旋轉構件，其中，
所述通道部是以軸線方向朝向面內方向的方式配置的線型構件，
所述自旋轉子的直徑小于所述通道部的線寬。
8.一種自旋馬達，其中，
該自旋馬達具備：
基板；
自旋注入件，其設于所述基板上，且由在基板面內方向被磁化的強磁性體構成；
自旋轉子，其以與所述自旋注入件分離的方式設于所述基板上，且由磁矩能夠在基板面內方向旋轉的強磁性體構成；
通道部，其配置在所述自旋注入件與所述自旋轉子之間，且由直接或經由絕緣層與所述自旋注入件及所述自旋轉子接合的非磁性體構成；
自旋旋轉控制部，其控制所述通道部的自旋的旋轉方向；以及
馬達轉子，其與所述自旋轉子分離且對置配置，且由追隨所述自旋轉子的磁矩進行旋轉的強磁性體構成，
所述自旋旋轉控制部使所述通道部的自旋的朝向根據時間在基板面內方向上以各旋轉規定角度的方式進行變更。
9.根據權利要求8所述的自旋馬達，其中，
所述自旋轉子呈圓板狀，
所述馬達轉子以旋轉軸與基板正交的方式配置。
10.根據權利要求8或9所述的自旋馬達，其中，
所述通道部形成在所述基板上，
所述自旋注入件及所述自旋轉子形成在所述通道部上，
所述馬達轉子以與所述自旋轉子分離的方式配置于所述自旋轉子的上方。
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