[發(fā)明專利]支撐電動機的轉(zhuǎn)子中的超導(dǎo)繞組的設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380040787.8
• 申請日: 2013-06-14
• 公開（公告）號: CN104508961B
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: R.R.里科;R.萊克斯;T.切查克;P.斯卡塞爾
• 申請（專利權(quán)）人: 西門子能量股份有限公司
• 主分類號: H02K55/04
• 分類號: H02K55/04
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 曲瑩

1.一種支撐與電動機的轉(zhuǎn)子芯處于間隔開的關(guān)系的超導(dǎo)繞組的設(shè)備，包括：

支架，構(gòu)造成限定出一凹槽，以接收所述超導(dǎo)繞組；

至少第一縱長環(huán)和至少第二縱長環(huán)，均以關(guān)于徑向軸線的相應(yīng)角度布置成給所述支架提供徑向和切向支撐，其中，所述縱長環(huán)包括對熱流有明顯抵抗性的相應(yīng)材料，其中，所述支架布置成在所述縱長環(huán)的相應(yīng)遠端處支撐所述至少第一縱長環(huán)和所述至少第二縱長環(huán)；以及

軸向延伸的基底組件，布置成在所述縱長環(huán)的相應(yīng)近端處相對于所述轉(zhuǎn)子芯錨定所述至少第一縱長環(huán)和所述至少第二縱長環(huán)，所述近端分別位于所述徑向軸線的第一和第二彼此相對兩側(cè)上，

至少第一縱長環(huán)和至少第二縱長環(huán)沿軸向相繼地布置。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述支架包括弓形外表面，所述弓形外表面構(gòu)造成接收所述縱長環(huán)的相應(yīng)遠端。

3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括基座，所述基座布置成封閉所述凹槽的底側(cè)，并支撐所述支架中的超導(dǎo)繞組。

4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述軸向延伸的基底組件包括模塊化組件，所述模塊化組件包括布置在轉(zhuǎn)子芯空腔中的多個軸向互連的基底模塊。

5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中，基底模塊布置成相對于所述轉(zhuǎn)子芯通過管狀聯(lián)接器錨定所述縱長環(huán)的相應(yīng)近端。

6.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，基底模塊包括軸向向前表面和軸向向后表面，其中，所述管狀聯(lián)接器包括至少第一管，所述至少第一管位于所述多個軸向互連的基底模塊的軸向向前表面，并還位于彼此相對兩側(cè)的第一側(cè)，以接收所述至少第一縱長環(huán)的近端，其中，所述管狀聯(lián)接器還包括至少第二管，所述至少第二管位于所述多個軸向互連的基底模塊的軸向向后表面，并還位于彼此相對兩側(cè)的第二側(cè)，以接收所述第二縱長環(huán)的近端。

7.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，所述管狀聯(lián)接器還布置成相對于軸向相鄰的基底模塊提供軸向機械連接。

8.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，所述管狀聯(lián)接器包括可以通過相應(yīng)接頭互相連接起來的分段的管狀聯(lián)接器。

9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述至少第一縱長環(huán)和所述至少第二縱長環(huán)的關(guān)于徑向軸線的相應(yīng)角度包括全等角，以給所述支架提供對稱的切向支撐。

10.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述至少第一縱長環(huán)和所述至少第二縱長環(huán)的關(guān)于徑向軸線的相應(yīng)角度包括不同的角度，以給所述支架提供不對稱的切向支撐。

11.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述至少第一縱長環(huán)以及一個或多個另一環(huán)形成第一組縱長環(huán)，所述第一組縱長環(huán)分別具有位于所述徑向軸線的第一側(cè)的近端，所述至少第二縱長環(huán)以及一個或多個另一環(huán)形成第二組縱長環(huán)，所述第二組縱長環(huán)分別具有位于所述徑向軸線的第二側(cè)的近端。

12.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，所述第一組縱長環(huán)和所述第二組縱長環(huán)包括相等數(shù)量的環(huán)。

13.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中，所述第一組縱長環(huán)和所述第二組縱長環(huán)包括不同數(shù)量的環(huán)。

14.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述基底組件包括至少一個支座，所述支座布置成在所述轉(zhuǎn)子的靜態(tài)狀態(tài)期間或所述轉(zhuǎn)子的包括相對低的每分鐘轉(zhuǎn)數(shù)(RPM)的旋轉(zhuǎn)狀態(tài)期間支撐所述基座。

15.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中，在所述轉(zhuǎn)子的高于相對低的每分鐘轉(zhuǎn)數(shù)的旋轉(zhuǎn)狀態(tài)期間，一間隙形成在所述基底組件的所述至少一個支座和所述基座之間，從而減少了所述基座和所述基底組件之間的傳導(dǎo)熱傳遞。