[發(fā)明專利]表面增強拉曼散射單元

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380040609.5
• 申請日: 2013-08-09
• 公開（公告）號: CN104508465B
• 公開（公告）日: 2018-12-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 伊藤將師;柴山勝己;川合敏光;大藤和人;大山泰生;丸山芳弘;能野隆文;廣瀬真樹;吉田杏奈
• 申請（專利權(quán)）人: 浜松光子學(xué)株式會社
• 主分類號: G01N21/65
• 分類號: G01N21/65;B82Y15/00;B82Y40/00
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 楊琦

1.一種表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

包括：

處理基板，其一體地形成；及

表面增強拉曼散射元件，其被固定于以在所述處理基板的厚度方向上的一側(cè)開口的方式設(shè)置于所述處理基板的收納空間內(nèi)，

所述表面增強拉曼散射元件具有：

基板，其配置于所述收納空間的底面；及

光學(xué)功能部，其形成于所述基板上，且產(chǎn)生表面增強拉曼散射，

還具備在使用前捆包所述處理基板并且在使用時使所述收納空間不可逆地開放的袋狀的封裝體，

在所述處理基板被捆包于所述封裝體的狀態(tài)下，所述收納空間的真空度被提高。

2.如權(quán)利要求1所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述收納空間為設(shè)置于所述處理基板的所述一側(cè)的主面的凹部內(nèi)的空間。

3.如權(quán)利要求1所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述收納空間為一體地形成于所述處理基板的所述一側(cè)的主面的環(huán)狀壁部的內(nèi)側(cè)的空間。

4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

還具備以覆蓋所述收納空間的開口部的方式配置于所述處理基板的蓋。

5.如權(quán)利要求4所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述蓋具有光透過性。

6.如權(quán)利要求4所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述蓋被配置于設(shè)置于所述開口部的加寬部內(nèi)，且向與所述厚度方向垂直的方向的移動被限制。

7.如權(quán)利要求5所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述蓋被配置于設(shè)置于所述開口部的加寬部內(nèi)，且向與所述厚度方向垂直的方向的移動被限制。

8.如權(quán)利要求4所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述蓋被配置于在自所述厚度方向觀察的情況下以包圍所述開口部的方式一體地形成于所述開口部的周圍的突出部的內(nèi)側(cè)，且向與所述厚度方向垂直的方向的移動被限制。

9.如權(quán)利要求5所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述蓋被配置于在自所述厚度方向觀察的情況下以包圍所述開口部的方式一體地形成于所述開口部的周圍的突出部的內(nèi)側(cè)，且向與所述厚度方向垂直的方向的移動被限制。

10.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述處理基板通過樹脂而一體地形成。

11.如權(quán)利要求4所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述處理基板通過樹脂而一體地形成。

12.如權(quán)利要求5所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述處理基板通過樹脂而一體地形成。

13.如權(quán)利要求6所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述處理基板通過樹脂而一體地形成。

14.如權(quán)利要求7所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述處理基板通過樹脂而一體地形成。

15.如權(quán)利要求8所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述處理基板通過樹脂而一體地形成。

16.如權(quán)利要求9所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述處理基板通過樹脂而一體地形成。

17.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的表面增強拉曼散射單元，其特征在于，

所述表面增強拉曼散射元件被機械固定于所述收納空間內(nèi)。