[發明專利]含硅高支化聚合物及含有該聚合物的固化性組合物有效
| 申請號: | 201380039560.1 | 申請日: | 2013-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN104507990B9 | 公開(公告)日: | 2017-07-18 |
| 發明(設計)人: | 田村浩康;松山元信;原口將幸 | 申請(專利權)人: | 日產化學工業株式會社 |
| 主分類號: | C08F290/06 | 分類號: | C08F290/06;B32B27/00;C08J7/04;C09D4/00;C09D7/12;C09D143/04;C09K3/18 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所11247 | 代理人: | 段承恩,李照明 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含硅高支化 聚合物 含有 固化 組合 | ||
技術領域
本發明涉及一種含硅高支化聚合物、添加了該含硅高支化聚合物而成的固化性組合物、及由該組合物得到的硬涂膜。
背景技術
聚合物(高分子)材料近年來在越來越多的領域中被利用。伴隨于此,與各個領域對應,作為基體的聚合物的性狀以及其表面、界面的特性變得重要。例如通過使用表面能低的氟系化合物作為表面改性劑,可期待疏水疏油性、防污性、非粘合性、剝離性、脫模性、光滑性、耐磨性、抗反射特性、耐化學藥品性等與表面和界面控制相關的特性的提高,提出了各種方案。
在LCD(液晶顯示器)、PDP(等離子體顯示器)、觸摸面板等各種顯示器的表面使用具備用于防止劃傷的硬涂層的各種塑料膜。但是,硬涂層容易附著指紋痕、污漬,附著的指紋痕、污漬不能簡單地除去。因此,存在顯著損傷顯示器的圖像的可見性或損傷顯示器的美觀這樣的問題。特別是觸摸面板表面,由于是人手直接接觸的表面,因此,特別強烈地期望指紋痕不易附著,且在附著的情況下容易除去。
作為用于形成這樣的硬涂層的硬涂層形成用涂布液,具體而言,公開了對含有硅氧烷系化合物和/或氟系化合物的硬涂層用組合物照射活性能量射線而得到的固化層在防污性和光滑性方面優異(專利文獻1)。另外,公開了由含有含氟高支化聚合物以及全氟聚醚化合物和/或硅氧烷化合物的涂布用固化性組合物得到的硬涂膜在耐指紋性等表面特性方面優異(專利文獻2)。此外,公開了由添加了具有聚硅氧烷的側鏈的支化聚合物而成的 涂料組合物得到的高分子成型體可長時期維持抗粘合性和耐污染性(專利文獻3)。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2005-152751號公報
專利文獻2:國際公開第2012/074071號小冊子
專利文獻3:日本特開2002-121487號公報
發明內容
發明要解決的課題
如上所述,雖然提出了各種將硅化合物(硅氧烷系表面調節劑)、氟化合物(氟系表面調節劑)添加到硬涂層形成用涂布液中來對硬涂層的表面進行改性的方法,但在具備含有硅化合物或氟化合物的硬涂層的各種顯示器或電子設備框體中,使用它們的使用者在使用紙巾或濕紙巾擦去附著于其表面的污漬時,如果表面不具有充分的光滑性,則存在污漬的除去性不良好這樣的課題。另外,近年來,在智能手機、平板PC等的觸摸面板中,由于進行滑動或輕彈這樣的用手指等對其表面進行描繪這樣的操作,因此,要求可得到更高光滑性的表面的技術。
即,要求一種高光滑性和疏水疏油性優異,且可通過一般所使用的氮氣氛下或空氣氣氛下的紫外線照射而固化的硬涂層形成用組合物。
用于解決課題的手段
本發明人們為了實現上述目的進行了悉心研究,結果發現,通過在固化型組合物中添加一種含硅高支化聚合物,可對由該組合物得到的固化膜賦予高光滑性和疏水疏油性,而且,該固化膜可在利用紫外線照射的慣用的固化條件下表現出這些性能,以至于完成了本發明,所述含硅高支化聚合物是通過使單體A和單體B在聚合引發劑D的存在下進行聚合而得到的,所述單體A在分子內具有2個以上自由基聚合性雙鍵,所述單體B在 分子內具有聚硅氧烷鏈和至少1個自由基聚合性雙鍵,相對于該單體A的摩爾數,所述聚合引發劑D的量為5~200摩爾%。
即,作為第一觀點,本發明涉及一種含硅高支化聚合物,其是通過使單體A和單體B在聚合引發劑D的存在下進行聚合而得到的,所述單體A在分子內具有2個以上自由基聚合性雙鍵,所述單體B在分子內具有聚硅氧烷鏈和至少1個自由基聚合性雙鍵,相對于該單體A的摩爾數,所述聚合引發劑D的量為5~200摩爾%。
作為第二觀點,涉及一種含硅高支化聚合物,其是通過使單體A、單體B和單體C在聚合引發劑D的存在下進行聚合而得到的,所述單體A在分子內具有2個以上自由基聚合性雙鍵,所述單體B在分子內具有聚硅氧烷鏈和至少1個自由基聚合性雙鍵,所述單體C在分子內具有碳原子數6~30的烷基或碳原子數3~30的脂環基和至少1個自由基聚合性雙鍵,相對于該單體A的摩爾數,所述聚合引發劑D的量為5~200摩爾%。
作為第三觀點,涉及第一觀點或第二觀點所述的含硅高支化聚合物,所述單體B為具有至少1個乙烯基或(甲基)丙烯基的化合物。
作為第四觀點,涉及第三觀點所述的含硅高支化聚合物,所述單體B為下述式[1]所示的化合物。
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