[發(fā)明專利]EUV投射曝光設(shè)備的反射鏡布置及其操作方法，及EUV投射曝光設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380039384.1
• 申請日: 2013-07-16
• 公開（公告）號: CN104487899B
• 公開（公告）日: 2017-08-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: B.比特納;N.韋伯拉;S.施奈德;R.施奈德;H.瓦格納;R.伊利夫;W.保爾斯
• 申請（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B7/00;G02B17/06;G21K1/06
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所11105
• 代理人: 陳金林

1.一種微光刻的EUV投射曝光設(shè)備(200)的反射鏡布置，包含多個反射鏡(30；50；70；110；150；170；210-218、224-234)，所述多個反射鏡各具有在EUV光譜范圍中為反射的層(32；52；72；112；152；172)并具有主體(34；54；74；114；154；174)，所述層能夠被施加EUV輻射，其特征在于：所述多個反射鏡的至少一個反射鏡(30；70；110；150；170；226)具有包含具有負熱膨脹系數(shù)的材料的至少一個層(36；76；118；156；178)，并且所述反射鏡布置還包含至少一個熱源(96；126)，從而以有目標(biāo)的方式局部施加熱至所述至少一個反射鏡(70；110)的具有負熱膨脹系數(shù)的至少一個層(76；118)。

2.如權(quán)利要求1所述的反射鏡布置，其特征在于：所述至少一個反射鏡(110；170)具有至少一個另外層(116；176)，所述至少一個另外層包含具有正熱膨脹系數(shù)的材料，所述至少一另外層與具有負熱膨脹系數(shù)的所述至少一個層(118；178)通過至少一個熱絕緣層(120；180)分開。

3.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡布置，其特征在于：所述多個反射鏡(30；50；70；110；150；170；210-218、224-234)的至少一個另外反射鏡具有包含具有負熱膨脹系數(shù)的材料的至少一個層。

4.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡布置，其特征在于：所述多個反射鏡的至少一個另外反射鏡(50；224)具有包含具有正熱膨脹系數(shù)的材料至少一個層(56)。

5.如權(quán)利要求3所述的反射鏡布置，其特征在于：所述至少一個反射鏡(70；226)和所述至少一個另外反射鏡(50；224)布置在所述EUV輻射的光束路徑中關(guān)于其光學(xué)效應(yīng)為共軛或近似共軛的位置。

6.如權(quán)利要求3所述的反射鏡布置，其特征在于至少一個另外熱源(92；122)，從而以有目標(biāo)的方式局部施加熱至所述至少一個另外反射鏡(50；224)的具有負或正熱膨脹系數(shù)的至少一個層(56)。

7.如權(quán)利要求2所述的反射鏡布置，其特征在于至少一個另外熱源(122)，從而以有目標(biāo)的方式局部施加熱至所述至少一個反射鏡的具有正熱膨脹系數(shù)的至少一個層(116)。

8.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡布置，其特征在于：設(shè)計所述至少一個熱源(96；126)和/或所述至少一個另外熱源(92；122)以施加位置可變熱分布至具有負熱膨脹系數(shù)的所述至少一個層(76；118)和/或具有正熱膨脹系數(shù)的所述至少一個層(56；116)。

9.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡布置，其特征在于：所述至少一個熱源(96；126)和/或所述至少一個另外熱源(92；122)為IR輻射源(94、98、124、128)。

10.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡布置，其特征在于：所述至少一個熱源(96；126)和/或所述至少一個另外熱源(92；122)通過所述反射層(52；72；112)施加熱至具有負熱膨脹系數(shù)的所述至少一個層(76；118)和/或具有正熱膨脹系數(shù)的所述至少一個層(56)。

11.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡布置，其特征在于：所述至少一個熱源(96；126)和/或所述至少一個另外熱源(92；122)從所述主體(54；74；114)的側(cè)面施加熱至具有負熱膨脹系數(shù)的所述至少一個層(76；118)和/或具有正熱膨脹系數(shù)的所述至少一個層(56)。

12.如權(quán)利要求1或2所述的反射鏡布置，其特征在于：至少一個熱絕緣層(160；182)存在于具有負熱膨脹系數(shù)的所述至少一個層(156；178)與所述主體(154；174)之間。

13.如權(quán)利要求12所述的反射鏡布置，其特征在于：具有高導(dǎo)熱性的層存在于所述熱絕緣層(160；182)與所述主體(154；174)之間。