[發明專利]氣體處理方法和氣體處理裝置有效
| 申請號: | 201380039113.6 | 申請日: | 2013-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN104487154B | 公開(公告)日: | 2017-03-29 |
| 發明(設計)人: | 神原信志;菱沼宣是;增井芽 | 申請(專利權)人: | 優志旺電機株式會社;阿克特里股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/56 | 分類號: | B01D53/56;B01D53/32;B01D53/74;F01N3/08 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277 | 代理人: | 劉新宇,張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣體 處理 方法 裝置 | ||
1.一種氣體處理方法,其中,對含有氮氧化物的被處理氣體進行處理,其特征在于,
該氣體處理方法具有向在所述被處理氣體中混合氨而成的混合氣體照射紫外線的工序,
所述混合氣體中的氨相對于一氧化氮的比率按摩爾比計為1.5以上。
2.根據權利要求1所述的氣體處理方法,其特征在于,
所述紫外線具有波長為190nm以下的光。
3.根據權利要求1或權利要求2所述的氣體處理方法,其特征在于,
在該氣體處理方法中,通過使所述被處理氣體與氨水溶液相接觸來制備所述混合氣體。
4.根據權利要求1至權利要求3中任一項所述的氣體處理方法,其特征在于,
在該氣體處理方法中,通過使向所述混合氣體照射紫外線而得到的光照射處理完成后氣體與氨回收用水相接觸,從而回收該光照射處理完成后氣體中的氨。
5.一種氣體處理裝置,其用于對含有氮氧化物的被處理氣體進行處理,其特征在于,
該氣體處理裝置包括:
氨供給部,其用于供給氨;
光照射處理部,其用于向在所述被處理氣體中混合來自所述氨供給部的氨而成的混合氣體照射紫外線;以及
氨濃度調整部件,其用于將所述混合氣體中的氨相對于一氧化氮的比率調整為按摩爾比計成為1.5以上。
6.根據權利要求5所述的氣體處理裝置,其特征在于,
所述光照射處理部具有用于輻射包括波長為190nm以下的光的紫外線的燈作為向所述混合氣體照射紫外線的紫外線光源。
7.根據權利要求5或權利要求6所述的氣體處理裝置,其特征在于,
所述氨供給部以氨水溶液的狀態供給所述氨,
該氣體處理裝置包括混合氣體制備部,該混合氣體制備部通過使所述被處理氣體與自所述氨供給部供給過來的氨水溶液相接觸來制備所述混合氣體。
8.根據權利要求5至權利要求7中任一項所述的氣體處理裝置,其特征在于,
該氣體處理裝置包括氨回收部,該氨回收部通過使自所述光照射處理部排出的光照射處理完成后氣體與氨回收用水相接觸來回收該光照射處理完成后氣體中的氨。
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