[發明專利]用于超光滑拋光的磁流變流體有效
| 申請號： | 201380038308.9 | 申請日： | 2013-07-16 |
| 公開（公告）號： | CN104487204B | 公開（公告）日： | 2017-06-23 |
| 發明（設計）人： | W.科頓斯基;S.戈羅德金;E.奧斯瓦爾德 | 申請（專利權）人： | QED技術國際股份有限公司 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美國伊*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 光滑 拋光 流變 流體 | ||
【權利要求書】：
1.用于基板表面的磁流變超光滑拋光的磁流變流體，包含：
含水載體載劑；
第一量的具有第一平均直徑的磁性顆粒；以及
第二量的具有第二平均直徑的研磨劑顆粒，其中，所述第二平均直徑為1納米到10納米，
其中所述第一平均直徑比所述第二平均直徑大2至3個數量級。
2.權利要求1的磁流變流體，其中，所述第一平均直徑為1微米到2微米。
3.權利要求1的磁流變流體，進一步包含化學穩定劑。
4.權利要求1的磁流變流體，其中，所述磁性顆粒包括羰基鐵。
5.權利要求4的磁流變流體，其中，所述磁性顆粒是球形的。
6.權利要求1的磁流變流體，其中，所述研磨劑顆粒的材料選自氧化鋁、氧化鋯、氧化鈰、二氧化硅、碳化硼、碳化硅、天然金剛石、人造金剛石、以及它們的組合。
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