[發明專利]防霧納米紋理表面及包含這種表面的制品

無效

• 申請號: 201380038173.6
• 申請日: 2013-05-10
• 公開（公告）號: CN104470712A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: K.德什潘德;S.布萊克伯恩;巖住正典
• 申請（專利權）人: SDC科技有限公司
• 主分類號: B32B3/30
• 分類號: B32B3/30;B32B33/00;B08B17/06;B08B5/08
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 周李軍;楊思捷

1.?一種用于透明基材的防霧透明納米紋理表面，所述納米紋理表面包括垂直柱陣列，所述垂直柱陣列具有：

14%至65%的陣列表面分數(?_s)；

45至125nm的平均陣列間距；

50至150nm的平均柱高度；和

2.5至7.5的粗糙度。

2.?權利要求1的納米紋理表面，其中所述陣列中各單獨柱的橫截面為圓形或等角多邊形。

3.?權利要求1的納米紋理表面，其中：

在所述陣列包含具有圓形橫截面的柱時，所述柱具有25至100nm的平均直徑，或者

在所述陣列包含具有正方形橫截面的柱時，所述柱具有25至100nm的平均邊長。

4.?權利要求1的納米紋理表面，其中所述陣列的表面分數(?_s)為19%至65%。

5.?權利要求1的納米紋理表面，其中所述陣列的表面分數(?_s)為24%至65%。

6.?權利要求1的納米紋理表面，其中所述表面包含至少一個選自硬化組合物、可硬化組合物和金屬氧化物的層。

7.?權利要求1的納米紋理表面，其中所述表面包含至少一個二氧化硅層。

8.?權利要求1的納米紋理表面，其中所述表面的反射百分率小于或等于沒有納米紋理的類似表面的反射百分率，其中所述類似表面為與所述表面相同的材料，但沒有所述納米紋理。

9.?權利要求1的納米紋理表面，其中至少部分所述納米紋理表面具有在其上沉積的至少一個疏水層。

10.?權利要求9的納米紋理表面，其中所述至少一個疏水層的厚度為1至10nm。

11.?權利要求1的納米紋理表面，其中所述陣列中各單獨間距不同。

12.?一種制品，所述制品包含透明基材和在該基材上形成的權利要求1的至少一部分納米紋理表面。

13.?權利要求12的制品，其中所述至少一部分納米紋理表面為制品的外層。

14.?權利要求12的制品，所述制品進一步包括布置在所述基材和所述納米紋理表面之間的層，該層選自底涂層、抗磨層、減反射層及它們的組合。

15.?權利要求12的制品，其中所述基材為眼鏡片。