[發明專利]磁性裝置和光刻設備

有效

• 申請號: 201380037596.6
• 申請日: 2013-06-18
• 公開（公告）號: CN104471485B
• 公開（公告）日: 2016-11-02
• 發明（設計）人: F·A·布恩;O·M·J·費希爾
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;張寧

1.一種磁性裝置，包括：

第一部分；

第二部分；

第一磁性部分，耦合到所述第一部分并且具有第一磁性極化；

第二磁性部分，耦合到所述第二部分并且具有第二磁性極化；以及

額外的磁性部分，耦合到所述第一部分并且具有額外的磁性極化；

其中：

所述第一磁性部分和所述第二磁性部分被配置成與彼此磁性相互作用，其中：

所述第一磁性部分將第一力施加在所述第二磁性部分上；

所述第二磁性部分將第二力施加在所述第一磁性部分上；以及

所述第一力和所述第二力具有平行于參考方向的相反方向；

所述第一磁性極化基本上平行于所述參考方向；

所述第二磁性極化基本上垂直于所述參考方向；

所述額外的磁性極化與所述第一磁性極化成角度；以及

所述角度具有在約90°至約270°的范圍中的幅度。

2.根據權利要求1所述的磁性裝置，其中所述角度具有約180°的幅度。

3.根據權利要求1所述的磁性裝置，其中所述第一部分和所述第二部分中的至少一個具有包括至少一個線圈的線圈組件，其中所述線圈被構建和布置在由所述第一磁性部分、所述第二磁性部分和所述額外的磁性部分形成的磁路內，使得一旦激勵所述線圈，則額外的力沿著所述參考方向被施加在所述第一部分和所述第二部分之間。

4.根據前述權利要求中任一項所述的磁性裝置，其中所述額外的磁性部分包括基本上沒有鐵磁材料的永磁體。

5.根據前述權利要求中任一項所述的磁性裝置，進一步包括耦合到所述第二部分的第二額外的磁性部分，并且其中所述第二額外的磁性部分具有基本上平行于所述參考方向的第二磁性極化。

6.根據前述權利要求中任一項所述的磁性裝置，進一步包括耦合到所述第一部分的第三額外的磁性部分，并且其中所述第三額外的磁性部分具有基本上垂直于所述參考方向的第三磁性極化。

7.根據權利要求6所述的磁性裝置，其中所述第三額外的磁性部分位于所述第一磁性部分和所述額外的磁性部分之間。

8.根據前述權利要求中任一項所述的磁性裝置，適合作為重力補償器，其中所述參考方向沿著重力軸基本上對準，使得所述第一力和所述第二力能夠在所述第一部分和所述第二部分之間提供支撐力。

9.根據權利要求8所述的磁性裝置，其中所述第一磁性部分和所述第二磁性部分中至少一個是繞對稱軸圓對稱的并且基本上平行于所述重力軸。

10.一種光刻設備，包括：

支撐結構，配置成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置被配置成將輻射束圖案形成以形成圖案形成的輻射束；

襯底臺，配置成支撐襯底；

投影系統，配置成將圖案形成的輻射束投影到所述襯底上；以及

根據權利要求1至9中任一項的磁性裝置。

11.根據權利要求10所述的光刻設備，其中所述磁性裝置的所述第一部分被容納在所述襯底臺、所述支撐結構或液體限制系統處。