[發明專利]聚合物包被

有效

• 申請號: 201380037594.7
• 申請日: 2013-06-05
• 公開（公告）號: CN104508060B
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發明（設計）人: 韋恩·N·喬治;丹尼爾·布拉頓;安德魯·A·布朗;任洪吉;賴安·C·史密斯
• 申請（專利權）人: ILLUMINA公司
• 主分類號: C09D133/26
• 分類號: C09D133/26
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司11204
• 代理人: 王達佐,洪欣

1.基質，其具有表面，所述表面包含與之共價連接的聚合物包被，其中所述聚合物包被包含式(Ia)所示的重復單元和式(II)所示的重復單元：

其中：

R¹選自氫、烷基、環烷基、芳基、雜芳基、雜環基和以上基團的任選取代的變體；

R^A為疊氮基；

R⁴選自-C(O)OR⁶、-C(O)R⁶、-OC(O)R⁶、-C(O)NR⁷R⁸和-NR⁷R⁸；

R⁵選自H、OH、烷基、環烷基、芳基、雜芳基、雜環基和以上基團的任選取代的變體；

R^4'和R^5'均為H；

R⁶選自H、OH、烷基、環烷基、芳基、雜芳基、雜環基和以上基團的任選取代的變體；

每個R⁷和R⁸獨立地為H或烷基，或者R⁷和R⁸以與它們連接的原子結合在一起形成雜環，

每個-(CH₂)-_o可被任選取代；并且

o為1-50的整數。

2.如權利要求1所述的基質，其中R⁵為羥基烷基或其任選取代的變體。

3.如權利要求1所述的基質，其中R⁶為羥基烷基或其任選取代的變體。

4.如權利要求1所述的基質，其中R¹是H或烷基。

5.如權利要求1所述的基質，其中R¹是氫，并且o是5。

6.如權利要求1所述的基質，其中

R¹為H或烷基；

R⁴為-C(O)NH₂；

R⁵為H或烷基；并且

R^4'和R^5'均為H。

7.如權利要求6所述的基質，其中

R¹和R⁵均為H；并且

o是5。

8.如權利要求1-7中任一項所述的基質，其中所述聚合物包被與結合至所述表面的官能團共價結合，其中所述官能團選自烯烴、炔烴、氮烯、醛、肼、活化酯、縮水甘油醚、胺、馬來酰亞胺，以及鄰位上具有用于施陶丁格連接的膦取代基的苯甲?；?。

9.如權利要求8所述的基質，其中所述官能團包括炔烴。

10.如權利要求8所述的基質，其中所述官能團包括烯烴。

11.如權利要求8所述的基質，其中所述官能團包括活化酯。

12.如權利要求1-7中任一項所述的基質，其中所述表面包含聚合物包覆的區域和惰性區域。

13.如權利要求12所述的基質，其中所述惰性區域選自玻璃區域、金屬區域、遮蔽區域和間隙區域。

14.如權利要求12所述的基質，其中所述惰性區域包含玻璃。

15.如權利要求1-7中任一項所述的基質，其中所述基質表面包含開放的小井。

16.如權利要求1-7中任一項所述的基質，其中所述基質是珠子。