[發明專利]被測定物的測定方法在審
| 申請號: | 201380037589.6 | 申請日: | 2013-07-22 |
| 公開(公告)號: | CN104471372A | 公開(公告)日: | 2015-03-25 |
| 發明(設計)人: | 神波誠治;近藤孝志;白井伸明;岡田俊樹;長谷川慎 | 申請(專利權)人: | 株式會社村田制作所 |
| 主分類號: | G01N21/03 | 分類號: | G01N21/03;G01N21/47 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 張玉玲 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測定 方法 | ||
技術領域
本發明涉及被測定物的測定方法。更詳細而言,涉及將被測定物保持于具有空隙部的空隙配置結構體,對該空隙配置結構體照射電磁波,檢測因空隙配置結構體而被散射的電磁波的特性,由此測定被測定物的有無或量的測定方法。
背景技術
一直以來,為了分析物質的特性,采用如下測定方法:在空隙配置結構體保持被測定物,對保持了該被測定物的空隙配置結構體照射電磁波,對其透射光譜等進行解析從而檢測被測定物的有無或量。具體來說,可以舉出例如對附著于金屬網過濾器的蛋白質等被測定物照射太赫茲波而對透射光譜進行解析的手法。
作為采用這樣的電磁波的透射光譜的解析手法的現有技術,專利文獻1中公開了如下的測定方法:從相對于與空隙配置結構體的主面垂直的方向傾斜的方向,向具有保持了被測定物的空隙區域的空隙配置結構體(具體為網狀的導體板)照射電磁波,測定透過空隙配置結構體的電磁波,測定值的頻率特性所產生的跌落(ディップ)波形的位置由于被測定物的存在而發生移動,從而基于此檢測被測定物的特性。
以往,采用所述測定方法測定檢體中所含的被測定物的情況下,通常,首先從檢體中提取出被測定物后,在將提取出的被測定物保持在空隙配置結構體的狀態下進行利用電磁波的測定。因此,在測定之前需要另外的被測定物的提取工序,存在用于測定的操作工序增加的問題。
另外,例如,在使用膜過濾器等從液體、氣體等檢體中過濾提取被測定物的情況下,需要通過轉印等將提取出的被測定物轉載至空隙配置結構體的工序,由于難以將提取出的被測定物全部移動至空隙配置結構體,因此有時測定結果有較大偏差。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2008-185552號公報
發明內容
發明要解決的課題
本發明鑒于上述問題,其目的在于,提供能夠解決需要從檢體提取被測定物的情況下的操作工序的增加、測定結果的偏差的問題,并以簡便的工序高精度地測定檢體中所含的被測定物的被測定物的測定方法。
用于解決課題的手段
本發明為一種測定方法,其特征在于,所述測定方法是測定檢體中的被測定物的有無或量的方法,并包括如下工序:
過濾工序,將具有在垂直于主面的方向上貫通的多個空隙部的空隙配置結構體用作過濾器,從所述檢體中過濾所述被測定物,將所述被測定物保持于所述空隙配置結構體;
測定工序,對保持了所述被測定物的所述空隙配置結構體照射電磁波,檢測因所述空隙配置結構體而被散射的電磁波的特性。
所述空隙配置結構體的空隙部的大小優選為所述被測定物不能通過、或難以通過的大小。
所述空隙配置結構體的表面優選按照被測定物容易吸附的方式進行修飾。
所述檢體優選為液體或氣體。
所述被測定物優選為液體中的微生物,或者,氣體中的無機物、有機物、或其復合物。
發明效果
在本發明中,空隙配置結構體兼任提取過濾器和測定器件,因此能夠以簡便的工序高精度地測定檢體中所含的被測定物。
附圖說明
圖1是用于說明本發明所使用的空隙配置結構體的結構的示意圖。
圖2是用于說明本發明中的測定工序的一例的概要的示意圖。
圖3是用于說明實施例1的操作方法的示意圖。(a)為俯視圖,(b)為剖視圖。
圖4是表示實施例1中,被空隙配置結構體提取出的酵母的SEM照片的圖。
圖5是表示在實施例1中,提取出檢體1~3后的空隙配置結構體的透過率特性的圖。
圖6是表示在實施例1中,空隙配置結構體上的酵母數與空隙配置結構體的透過率峰的關系的圖表。
具體實施方式
本發明中,測定檢體中的被測定物的有無或量是指,對作為液體或氣體等檢體中所含的被測定物的化合物進行定量,可以舉出例如:測定溶液中等的微量的被測定物的含量的情形;進行被測定物的鑒定的情形等。檢體優選為液體或氣體。另外,所述被測定物優選為液體中的微生物,或者,氣體中的無機物、有機物、或其復合物。
本發明的測定方法的特征在于,包括如下工序:
(1)過濾工序,將具有在垂直于主面的方向上貫通的多個空隙部的空隙配置結構體用作過濾器,從檢體中過濾被測定物,將被測定物保持于空隙配置結構體;
(2)測定工序,對保持了被測定物的空隙配置結構體照射電磁波,檢測因空隙配置結構體而被散射的電磁波的特性。
(空隙配置結構體)
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社村田制作所,未經株式會社村田制作所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201380037589.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





