[發明專利]帶電粒子多子束光刻系統和冷卻配置制造方法

有效

• 申請號: 201380037560.8
• 申請日: 2013-05-14
• 公開（公告）號: CN104471669B
• 公開（公告）日: 2017-02-22
• 發明（設計）人: J.P.斯普倫杰斯;C.奧滕;R.賈杰;S.W.H.K.斯廷布林克;J.J.科寧;W.H.厄爾巴努斯;A.H.V.范維恩
• 申請（專利權）人: 邁普爾平版印刷IP有限公司
• 主分類號: H01J37/04
• 分類號: H01J37/04;H01J37/317
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 劉文潔

1.一種使用多個帶電粒子子束(7)曝光目標(13)的帶電粒子多子束光刻系統(1)，該系統包括：

子束發生器(2)，用于生成所述帶電粒子子束；

子束調制器(8)，用于使所述子束圖案化以形成經調制的子束；

子束投影器(12)，用于將所述經調制的子束投影至所述目標的表面上；

其中，所述子束發生器、子束調制器和/或子束投影器包括一個或多個板，所述板設置有多個孔徑，所述孔徑用于讓所述子束通過所述板，所述孔徑被布置成組以在所述一個或多個板的所述表面上形成多個波束區域(91)，所述波束區域區別于多個非波束區域(92)并與所述多個非波束區域(92)分開，所述非波束區域不包含用于使所述子束通過的孔徑；并且

其中，在所述光刻系統中具有孔徑的所述板中的至少一個設置有冷卻配置(93)，所述冷卻配置被部署在其表面上的一個或多個非波束區域中，所述冷卻配置包括設置有用于接收冷卻液體的入口(31)的板形主體，被配置成使冷卻液體在其中流動的多個冷卻通路(94)，和用于移除所述冷卻液體的出口(35)，其中，所述板形主體在所述冷卻通路之間設置有多個槽(34)，并且其中，所述槽基本上與所述孔徑板表面上的所述波束區域對準。

2.如權利要求1所述的系統，其中，所述入口和所述多個冷卻通路經由單個分配通路彼此連接，所述單個分配通路包括用于分散冷卻液體的分散部段(41)，以及用于在所述多個冷卻通路(94)上分割所述冷卻液體的分割部段(42)，其中，所述分散部段在面向所述入口(31)的一側具有第一橫截面積，并且在面向所述多個冷卻通路具有第二橫截面積；

其中，所述第一橫截面積和所述第二橫截面積相等；并且

其中，所述第一橫截面積的高度大于所述第二橫截面積的高度，所述高度的方向與所述冷卻通路蔓延通過的所述板形主體的平面狀部垂直。

3.如權利要求1或2所述的系統，其中，所述板形主體包括平坦表面(37)，所述平坦表面跨越用于連接設置有孔徑的所述板的接觸平面(P)，其中，所述冷卻通路(94)被布置成基本相互平行以限定流動方向(F)，所述流動方向(F)基本上平行于所述接觸平面(P)。

4.如前述權利要求中任一項所述的系統，其中，所述冷卻布置的所述板形主體通過粘合層(97)被連接至設置有孔徑的所述至少一個板。

5.如權利要求4所述的系統，其中，所述粘合層(97)的總體傳熱系數大于100kW/m²·K，優選地大于150kW/m²·K。

6.如前述權利要求中任一項所述的系統，進一步包括冷卻系統(25)，其被布置成以足夠高的流動速度向所述冷卻布置的所述入口提供冷卻液體，以產生通過所述多個冷卻通路的冷卻液體湍流。

7.如前述權利要求中任一項所述的系統，其中，所述子束調節器包括子束抑制陣列(9)和子束停止陣列(10)，并且其中，所述冷卻布置的所述板形主體被部署在所述子束抑制陣列的表面上。

8.如權利要求1至5中任一項所述的系統，進一步包括用于以基本上較低的流動速度向所述冷卻布置的所述入口提供冷卻液體的冷卻系統(25)，以產生通過所述多個冷卻通路的冷卻液體的層流。

9.如權利要求8所述的系統，其中，所述子束調制器包括子束抑制陣列9和子束停止陣列(10)，并且其中，所述冷卻布置的所述板形主體被部署在所述子束停止陣列的表面上。

10.如權利要求8所述的系統，其中，所述冷卻布置的所述板形主體被部署在所述子束投影器的孔徑板的表面上。

11.如前述權利要求中任一項所述的系統，其中，所述冷卻液體包括水。

12.如前述權利要求中任一項所述的系統，其中，所述冷卻布置的所述板形主體由鈦制成。