[發(fā)明專(zhuān)利]氣體混合設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201380036866.1
• 申請(qǐng)日: 2013-07-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104471672B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 卡爾蒂克·薩哈;卡利安吉特·戈什;斯科特·麥克萊蘭
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 應(yīng)用材料公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/02
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/02;H01L21/205
• 代理公司: 11006 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 徐金國(guó);趙靜

在此提供氣體混合設(shè)備的實(shí)施方式。在一些實(shí)施方式中，氣體混合設(shè)備可包括容器、多個(gè)第一入口和出口，所述容器界定內(nèi)部容積，所述容器具有封閉的頂部和底部以及相對(duì)于穿過(guò)頂部和底部的容器的中心軸的具有圓形截面的側(cè)壁；所述多個(gè)第一入口在靠近容器的頂部處耦接至容器，以提供多種處理氣體至容器的內(nèi)部容積，所述多個(gè)第一入口被設(shè)置成使得通過(guò)多個(gè)第一入口的多種處理氣體的流動(dòng)路徑與容器的側(cè)壁實(shí)質(zhì)上正切；所述出口在靠近容器的底部處耦接至容器，以允許多種處理氣體從容器的內(nèi)部容積移除。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明的實(shí)施方式大體涉及半導(dǎo)體處理裝備。

背景技術(shù)

本發(fā)明者已經(jīng)觀(guān)察到，用于將多種處理氣體傳送至處理腔室的許多傳統(tǒng)的氣體傳送系統(tǒng)，可能無(wú)法提供均勻的處理氣體混合物至處理腔室。這種在處理氣體混合物中缺乏均勻性的情況，導(dǎo)致處理腔室的區(qū)域接收較高濃度的處理氣體的個(gè)別組分，因此造成處理的非均勻性。

因此，本發(fā)明者提供一種改良的氣體混合設(shè)備。

發(fā)明內(nèi)容

在此提供氣體混合設(shè)備的實(shí)施方式。在一些實(shí)施方式中，氣體混合設(shè)備可以包括容器、多個(gè)第一入口和出口，所述容器界定內(nèi)部容積，所述容器具有封閉的頂部和底部，以及相對(duì)于穿過(guò)頂部和底部的所述容器的中心軸的具有圓形截面的側(cè)壁；所述多個(gè)第一入口在靠近所述容器的頂部處耦接至所述容器，以提供多種處理氣體至所述容器的內(nèi)部容積，所述多個(gè)第一入口設(shè)置成使得通過(guò)多個(gè)第一入口的多種處理氣體的流動(dòng)路徑實(shí)質(zhì)上與容器的側(cè)壁正切(tangential)；所述出口在靠近所述容器的底部處耦接至所述容器，以允許多種處理氣體從容器的內(nèi)部容積移除。

在一些實(shí)施方式中，一種用于處理基板的設(shè)備可以包括處理腔室、基板支撐件和氣體混合設(shè)備，所述處理腔室具有處理容積；所述基板支撐件位于處理容積內(nèi)；所述氣體混合設(shè)備耦接至所述處理腔室，以提供處理氣體混合物至處理腔室的處理容積。氣體混合設(shè)備可以包括容器、多個(gè)第一入口和出口，所述容器界定內(nèi)部容積，所述容器具有封閉的頂部和底部，以及相對(duì)于穿過(guò)頂部和底部的容器的中心軸的具有圓形截面的側(cè)壁；所述多個(gè)第一入口在靠近容器的頂部處耦接至所述容器，以提供多種處理氣體至容器的內(nèi)部容積，多個(gè)第一入口設(shè)置成使得通過(guò)多個(gè)第一入口的多種處理氣體的流動(dòng)路徑實(shí)質(zhì)上與容器的側(cè)壁正切；所述出口在靠近容器的底部處耦接至容器，以允許多種處理氣體從容器的內(nèi)部容積移除。

下面描述本發(fā)明的其他和進(jìn)一步的實(shí)施方式。

附圖說(shuō)明

以上簡(jiǎn)要概述并于以下更加詳細(xì)地討論的本發(fā)明的各實(shí)施方式，可通過(guò)參照在附圖中所描繪的本發(fā)明的示例性實(shí)施方式來(lái)理解。然而要注意這些附圖僅圖示本發(fā)明的典型實(shí)施方式，并因此不被視為限制本發(fā)明的范圍，本發(fā)明可以允許其他等效的實(shí)施方式。

圖1為根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方式的氣體混合設(shè)備的示意性側(cè)視圖。

圖2為根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方式的氣體混合設(shè)備的示意性俯視圖。

圖3為根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方式的氣體混合設(shè)備的示意性側(cè)視圖。

圖4為根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方式的氣體混合設(shè)備的示意性俯視圖。

圖5為根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方式的氣體混合設(shè)備的示意性截面?zhèn)纫晥D。

圖6為根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方式的氣體混合設(shè)備的示意性截面俯視圖。

圖7為根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方式的氣體混合設(shè)備的示意性截面俯視圖。

圖8描繪適合與根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方式的氣體混合設(shè)備一起使用的處理腔室的示意性側(cè)視圖。

圖9描繪適合與根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方式的氣體混合設(shè)備一起使用的處理腔室的一部分的頂部透視圖。

圖10描繪適合與根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方式的氣體混合設(shè)備一起使用的處理腔室的一部分的頂部透視圖。