[發明專利]微鏡陣列、其制法以及用于該微鏡陣列的光學元件有效
| 申請號: | 201380036567.8 | 申請日: | 2013-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN104428697B | 公開(公告)日: | 2016-10-12 |
| 發明(設計)人: | 十二紀行 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/08 | 分類號: | G02B5/08 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 制法 以及 用于 光學 元件 | ||
1.一種微鏡陣列,該微鏡陣列用于將配置在平板狀的光學元件的一面側的被投影物的鏡像成像于相對于該光學元件的元件面與該一面側呈面對稱的另一面側的空間位置,
該微鏡陣列的特征在于,
將兩個在透明的平板狀基板的一面通過使用旋轉刀的切割加工以規定間隔形成有多個相互平行的直線狀槽的光學元件以各光學元件的直線狀槽的延伸方向在俯視時彼此正交的方式按下述(A)~(C)中任一形態重疊,在該狀態下,該兩個光學元件構成一組,
(A)一光學元件的形成有直線狀槽的表面與另一光學元件的沒有形成槽的背面抵接的形態;
(B)各光學元件的形成有直線狀槽的表面彼此抵接的形態;
(C)各光學元件的沒有形成槽的背面彼此抵接的形態。
2.一種微鏡陣列,該微鏡陣列用于將配置在平板狀的光學元件的一面側的被投影物的鏡像成像于相對于該光學元件的元件面與該一面側呈面對稱的另一面側的空間位置,該微鏡陣列的特征在于,
在構成所述光學元件的一個透明的平板狀基板的一面和與該一面相反的一側的另一面,分別通過使用旋轉刀的切割加工以這樣的方式并以規定間隔形成有多個相互平行的直線狀槽:表面側的直線狀槽與背面側的直線狀槽在俯視時彼此正交。
3.一種微鏡陣列的制法,該微鏡陣列的制法是用于制造所述權利要求1所記載的微鏡陣列的方法,其特征在于,
該微鏡陣列的制法包括如下工序:準備透明的平板狀的基板的工序;將該基板安裝于切割加工機的加工臺的規定位置的工序;利用旋轉刀在所述基板的一面以規定間隔依次形成多個相互平行的直線狀槽的工序;將兩個形成有所述直線狀槽的基板以各基板的直線狀槽的延伸方向在俯視時彼此正交的方式按下述(D)~(F)中任一重疊方法進行重疊而構成一組的工序,
(D)使一基板的形成有直線狀槽的表面與另一基板的沒有形成槽的背面對齊、重疊的重疊方法;
(E)使各基板的形成有直線狀槽的表面彼此對齊、重疊的重疊方法;
(F)使各基板的沒有形成槽的背面彼此對齊、重疊的重疊方法。
4.一種微鏡陣列的制法,該微鏡陣列的制法是用于制造所述權利要求2所記載的微鏡陣列的方法,其特征在于,
該微鏡陣列的制法包括如下工序:準備透明的平板狀的基板的工序;將該基板安裝于切割加工機的加工臺的規定位置的工序;利用旋轉刀在所述基板的一面以規定間隔依次形成多個相互平行的直線狀槽的工序;將該基板從所述加工臺上暫時卸下、使該基板表背翻轉之后將該基板再次安裝于該加工臺的規定位置的工序;利用旋轉刀在所述基板的另一面沿與一面側的直線狀槽在俯視時正交的方向以規定間隔依次形成與所述一面的情況相同的多個相互平行的直線狀槽的工序。
5.一種微鏡陣列用光學元件,其特征在于,
在透明的平板狀基板的一表面以規定間隔形成有多個相互平行的直線狀槽。
6.根據權利要求5所記載的微鏡陣列用光學元件,其特征在于,
所述直線狀槽同與該直線狀槽相鄰的直線狀槽之間的基板表面部分的從槽底算起的高度與該基板表面部分的寬度之比“高度/寬度”為3.0以上。
7.一種微鏡陣列,該微鏡陣列用于將配置在平板狀的光學元件的一面側的被投影物的鏡像成像于相對于該光學元件的元件面與該一面側呈面對稱的另一面側的空間位置,該微鏡陣列的特征在于,
所述微鏡陣列是通過將兩個所述權利要求6所記載的光學元件上下重疊而構成的。
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