[發明專利]紋理化的玻璃表面及其制備方法

在審

• 申請號: 201380036506.1
• 申請日: 2013-07-12
• 公開（公告）號: CN104661976A
• 公開（公告）日: 2015-05-27
• 發明（設計）人: V·拉維錢德蘭;C·C·沃爾科特
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 郭輝

本文所述的任何出版物或專利文獻的全文內容通過參考結合于本文。

相關共同待審申請的交叉參考

本申請根據35U.S.C.§119要求2012年7月12日提交的美國臨時申請系列號61/670,835的優先權，本文以該申請的內容為基礎并通過參考將其全部內容結合于此。

本申請涉及2011年4月20日提交的題為“防眩光表面處理方法及其制品(Anti-Glare?Surface?Treatment?Method?and?Articles?Thereof)”的共同擁有和轉讓的共同待審申請美國專利申請號13/090,561，但不要求該文的優先權。

發明背景

本發明一般地涉及制造和使用(例如具有紋理化表面和任選的防眩光表面性質的)紋理化玻璃表面的方法，及其制品。具有高表面粗糙度的紋理化玻璃可用于觸摸或可觸摸的設備，例如觸摸板(例如蘋果魔法觸摸板(Apple?MagicTrackpad))和手提電腦的鍵盤面板。目前，這些表面中的很多表面由紋理化塑料或樹脂制成。這些紋理化塑料或樹脂材料不具有玻璃的耐磨損性，且可隨著重復使用而磨損。

發明概述

本發明提供一種制備防眩光(AG)表面紋理的方法，和由該方法制備的制品。所述方法包括噴砂處理和酸蝕刻非離子交換的玻璃工件的表面，然后進行離子交換。

附圖說明

在本發明的實施方式中：

圖1顯示了用于所批露的方法的示例性流程圖。

圖2A和2B分別顯示了用具有表面凹陷的比較性方法和沒有表面凹陷或顯著減少表面凹陷的發明性方法進行噴砂處理之后的顯微圖像。

圖3顯示了在蝕刻中可接受的玻璃厚度損失的范例。

圖4顯示了在噴砂處理的表面在蝕刻時的表面轉化。

圖5顯示了酸濃度和蝕刻時間對霧度性質的影響。

圖6顯示了酸濃度和蝕刻時間對圖像清晰度(DOI)性質的影響。

圖7顯示了韋布爾(Weibull)圖，比較了大猩猩玻璃(對照)和本發明的實驗玻璃樣品，后者用1500目白色氧化鋁進行噴砂處理和用酸進行蝕刻。

圖8顯示了透射霧度和表面粗糙度參數之間的關聯。

圖9顯示了玻璃厚度損失隨蝕刻時間和酸濃度的變化。

發明詳述

下面參考附圖(如果有的話)詳細描述本發明的各種實施方式。對各種實施方式的參考不限制本發明的范圍，本發明范圍僅受權利要求書范圍的限制。此外，在本說明書中列出的任何實施例都不是限制性的，且僅列出要求保護的本發明的諸多可能的實施方式中的一些實施方式。

在一些實施方式中，所揭示的制品以及制造方法及其用途提供了一個或多個優勢特征或方面，包括例如，如下文所述。任一項權利要求所述的特征或方面一般在本發明的所有方面適用。在任一項權利要求中所述的任意單個或多個特征或方面可以與任一項或多項其它權利要求中所述的任意其它特征或方面結合或置換。

定義

“特征”指的是，例如玻璃的邊界區域，該區域經差異化蝕刻(例如凹陷)或者具有較高隆起域(例如墩、平臺或“陸地”)。

“防眩光”、“AG”或類似術語是指光接觸本發明經過處理的制品表面(如顯示器表面)時變成漫反射而不是鏡面反射的物理轉變，或者指將制品表面反射的光變成漫反射而不是鏡面反射的性質。在一些實施方式中，可以通過機械蝕刻、化學蝕刻以及電蝕刻等方法，或者它們的組合來進行表面處理。防眩光沒有減少從表面反射的光的量，而僅改變反射光的特性。從防眩光表面反射的圖像不具有清晰的邊界。與防眩光表面不同，減反射表面通常是利用折射率變化以及(在一些情況下)相消干涉技術減少從表面反射的光的薄膜涂層。典型的減反射涂層不漫射光，仍從減反射涂層反射的光的量是鏡面的并且反射圖像仍是清晰的，雖然強度較低。

“接觸”或類似術語是指能導致至少一個被觸碰的實體發生物理和/或化學變化的密切物理觸碰。在本發明中，各種顆粒附著技術，例如噴涂、浸涂、縫式涂布等技術，當如本發明所圖示和描述的那樣用顆粒進行顆?；瘯r，能提供顆?；砻妗Ｗ鳛楦郊踊蛱娲绞剑绫景l明所圖示和描述的那樣，對顆?；砻娴母鞣N化學處理，如噴射、浸漬、浸涂等技術，或其組合，當使表面接觸一種或多種蝕刻劑組合物時，能夠提供蝕刻表面。