[發明專利]有機無機復合體及其形成用組合物有效
| 申請號： | 201380036104.1 | 申請日： | 2013-07-05 |
| 公開（公告）號： | CN104411773B | 公開（公告）日： | 2017-06-13 |
| 發明（設計）人： | 山手太軌 | 申請（專利權）人： | 日本曹達株式會社 |
| 主分類號： | C08L101/00 | 分類號： | C08L101/00;B32B9/00;C08K5/5419;C08L83/04;C07F7/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司11227 | 代理人： | 金世煜,苗堃 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 有機 無機 復合體 及其 形成 組合 | ||
1.一種利用加熱而固化的在表層形成有聚硅氧烷的偏析層的有機無機復合體形成用組合物，含有:
a)有機硅化合物和/或其縮合物，該有機硅化合物是式(I)表示的至少1種并且是Si1，
RnSiX4-n…(I)
式中，R表示碳原子直接鍵合于Si的有機基團，X表示羥基或水解性基團，n表示1或2，n為2時各R可以相同也可以不同，(4-n)為2以上時各X可以相同也可以不同，
所述Si1是通過Fedors的推算法求出的R的溶解度參數SP1小于通過Fedors的推算法求出的熱固性化合物的溶解度參數SP2且其差為1.6以上的有機硅化合物；
b)熱固性化合物，其中，不包括烯烴系聚合物；和
c)硅烷醇縮合催化劑。
2.一種利用加熱而固化的在表層形成有聚硅氧烷的偏析層的有機無機復合體形成用組合物，含有:
a)有機硅化合物和/或其縮合物，該有機硅化合物是式(I)表示的至少1種并且Si1與Si2的摩爾比Si1:Si2為5:5～10:0，
RnSiX4-n…(I)
式中，R表示碳原子直接鍵合于Si的有機基團，X表示羥基或水解性基團，n表示1或2，n為2時各R可以相同也可以不同，(4-n)為2以上時各X可以相同也可以不同，
所述Si1是通過Fedors的推算法求出的R的溶解度參數SP1小于通過Fedors的推算法求出的熱固性化合物的溶解度參數SP2且其差為1.6以上的有機硅化合物，所述Si2是SP1小于SP2且其差小于1.6的有機硅化合物或者是SP1大于SP2的有機硅化合物；
b)熱固性化合物，其中，不包括烯烴系聚合物；和
c)硅烷醇縮合催化劑。
3.一種在表層形成有聚硅氧烷的偏析層的有機無機復合體，含有:
a)有機硅化合物的縮合物，該有機硅化合物是式(I)表示的至少1種并且是Si1，
RnSiX4-n…(I)
式中，R表示碳原子直接鍵合于Si的有機基團，X表示羥基或水解性基團，n表示1或2，n為2時各R可以相同也可以不同，(4-n)為2以上時各X可以相同也可以不同，
所述Si1是通過Fedors的推算法求出的R的溶解度參數SP1小于通過Fedors的推算法求出的熱固性化合物的溶解度參數SP2且其差為1.6以上的有機硅化合物；
b)熱固性化合物的固化物，其中，不包括烯烴系聚合物的固化物；和
c)硅烷醇縮合催化劑。
4.一種在表層形成有聚硅氧烷的偏析層的有機無機復合體，含有:
a)有機硅化合物的縮合物，該有機硅化合物是式(I)表示的至少1種并且Si1與Si2的摩爾比Si1:Si2為5:5～10:0，
RnSiX4-n…(I)
式中，R表示碳原子直接鍵合于Si的有機基團，X表示羥基或水解性基團，n表示1或2，n為2時各R可以相同也可以不同，(4-n)為2以上時各X可以相同也可以不同，
所述Si1是通過Fedors的推算法求出的R的溶解度參數SP1小于通過Fedors的推算法求出的熱固性化合物的溶解度參數SP2且其差為1.6以上的有機硅化合物，所述Si2是SP1小于SP2且其差小于1.6的有機硅化合物或者是SP1大于SP2的有機硅化合物；
b)熱固性化合物的固化物，其中，不包括烯烴系聚合物的固化物；和
c)硅烷醇縮合催化劑。
5.一種層疊體，是將權利要求1或2所述的有機無機復合體形成用組合物涂布于基板而得到的。
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