[發(fā)明專利]用于提供具有預(yù)定的目標(biāo)射線分布的電磁射線的裝置和用于制造透鏡布置的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201380035726.2 | 申請日： | 2013-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN104428695B | 公開（公告）日： | 2016-11-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 斯特凡·馬爾克穆斯;托比亞斯·施密特 | 申請（專利權(quán)）人： | 歐司朗有限公司 |
| 主分類號： | G02B3/08 | 分類號： | G02B3/08;F21K9/69;F21V5/00;G02B19/00;F21V5/04 |
| 代理公司： | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人： | 余剛;李慧 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 提供 具有 預(yù)定 目標(biāo) 射線 分布 電磁 裝置 制造 透鏡 布置 方法 | ||
1.一種用于提供具有預(yù)定的目標(biāo)射線分布(12，ZS)的電磁射線的裝置，具有
-透鏡布置(15)，其中，所述透鏡布置(15)具有第一透鏡(18)，所述第一透鏡具有第一邊界面(20)和第二邊界面(22)，其中，所述第一邊界面(20)設(shè)計成凹形的，并且所述第二邊界面(20)設(shè)計成凸形的，并且其中，凹形的所述第一邊界面(20)形成了第一空隙(21)；并且其中所述透鏡布置(15)具有第二透鏡(24)，所述第二透鏡具有第三邊界面(26)和第四邊界面(28)，其中，所述第三邊界面(26)設(shè)計成凹形的，并且所述第四邊界面(28)設(shè)計成凸形的，并且其中，凹形的所述第三邊界面(26)形成了第二空隙(27)，所述第一透鏡(18)的至少一個部分布置在所述第二空隙中，并且具有
-用于產(chǎn)生具有預(yù)定的源射線分布(10，QS)的待轉(zhuǎn)向電磁射線(31)的射線布置(16)，其中所述射線布置(16)布置成，使得所述待轉(zhuǎn)向電磁射線(31)的至少一部分經(jīng)由所述第一邊界面(20)入射到所述透鏡布置(15)中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，預(yù)定的所述目標(biāo)射線分布(10，QS)是均勻的。
3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一透鏡(18)具有第一折光力，并且所述第二透鏡(24)具有第二折光力，并且其中，邊界面(20，22，26，28)設(shè)計成，使得折光力大小相同。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述邊界面(20，22，26，28)的至少一個邊界面具有至少一個臺階部(29，31)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中，兩個透鏡(18，24)中的至少一個設(shè)計成菲涅爾透鏡。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其中，所述射線布置(16)至少部分地布置在所述第一空隙(21)內(nèi)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述透鏡布置(15)設(shè)計成，使得所述待轉(zhuǎn)向電磁射線(31)的至少一部分在所述邊界面(20，22，26，28)的每一個處彎折。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，所述邊界面(20，22，26，28)根據(jù)所述透鏡的材料的折射率設(shè)計成，使得入射的電磁射線在所述第一邊界面(20)處的第一折射角(B1)，所述入射的電磁射線在所述第二邊界面(22)處的第二折射角(B2)，所述入射的電磁射線在所述第三邊界面(26)處的第三折射角(B3)和/或出射的電磁射線在所述第四邊界面(28)處的第四折射角(B4)大小相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求5至8中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述射線布置(16)具有第一射線源和至少一個第二射線源，用于產(chǎn)生所述待轉(zhuǎn)向電磁射線(31)。
10.一種用于制造透鏡布置(15)的方法，其中，
-預(yù)定借助所述透鏡布置(15)待轉(zhuǎn)向的射線(31)的源射線分布(10，QS)，
-預(yù)定從所述透鏡布置(15)中的出射的電磁射線(30)的目標(biāo)射線分布(12，ZS)，
-根據(jù)預(yù)定的所述源射線分布(10，QS)和預(yù)定的所述目標(biāo)射線分布(12，ZS)使待轉(zhuǎn)向電磁射線(32)的源角度(QW)與所述出射的電磁射線(30)的目標(biāo)角度(ZW)相對應(yīng)，
-借助源角度(QW)和目標(biāo)角度(ZW)的成對的對應(yīng)，測定所述待轉(zhuǎn)向電磁射線(31)必須偏轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)向角(UW)，從而所述出射的電磁射線(30)具有預(yù)定的所述目標(biāo)射線分布(12，ZS)，并且
-根據(jù)所述源角度(QW)和相應(yīng)的所述轉(zhuǎn)向角(UW)測定所述透鏡布置(15)的邊界面(20，22，26，28)的表面輪廓(40，42，46，48)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，均勻的射線分布預(yù)定為目標(biāo)射線分布(12，ZS)。
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