[發明專利]光取向曝光裝置及光取向曝光方法

有效

• 申請號: 201380034909.2
• 申請日: 2013-03-29
• 公開（公告）號: CN104395832A
• 公開（公告）日: 2015-03-04
• 發明（設計）人: 梶山康一;橋本和重;新井敏成
• 申請（專利權）人: 株式會社V技術
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02F1/1337
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;楊生平

1.一種光取向曝光裝置，其將液晶顯示元件的各單位圖像區域分割為多個分割區域，并分別向不同方向對各分割區域的取向材料膜進行光取向，其特征在于，

所述光取向曝光裝置具備：第1掩模及第1曝光裝置，用于單獨接近式曝光作為所述分割區域之一的第1分割區域；第2掩模及第2曝光裝置，用于單獨接近式曝光作為所述分割區域之一且與所述第1分割區域相鄰的第2分割區域；及第3掩模及第3曝光裝置，用于曝光所述第1分割區域與所述第2分割區域的邊界附近的所述第1分割區域側的區域，

所述第3曝光裝置相對于被曝光面具備與所述第1曝光裝置相同的光照射角度，

在所述第3掩模的掩模開口與被曝光面之間具備聚光機構，其使掩模透射光聚光于所述邊界附近的所述第1分割區域側的區域。

2.根據權利要求1所述的光取向曝光裝置，其特征在于，

所述光取向曝光裝置具備基板掃描機構，其沿著多個所述單位圖像區域的排列方向且沿著所述分割區域的分割線掃描具有所述被曝光面的基板，

沿著所述基板掃描機構的掃描方向，依次隔開間隔配置所述第1掩模及所述第1曝光裝置、所述第2掩模及所述第2曝光裝置、所述第3掩模及所述第3曝光裝置，

所述第1曝光裝置及所述第2曝光裝置照射沿著所述掃描方向的曝光光且相對于被曝光面不同的角度的紫外線曝光光。

3.根據權利要求1或2所述的光取向曝光裝置，其特征在于，

所述聚光機構為在所述第3掩模中的多個掩模開口的光透射側分別配置單透鏡的微透鏡陣列。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的光取向曝光裝置，其特征在于，

所述單位圖像區域為將一個像素內分成多個顏色的子像素。

5.一種光取向曝光方法，其將液晶顯示元件的各單位圖像區域分割為多個分割區域，并分別向不同方向對各分割區域的取向材料膜進行光取向，其特征在于，

所述光取向曝光方法具有：第1曝光工序，經由第1掩模單獨接近式曝光作為所述分割區域之一的第1分割區域；第2曝光工序，經由第2掩模單獨接近式曝光作為所述分割區域之一且與所述第1分割區域相鄰的第2分割區域；及第3曝光工序，經由第3掩模曝光所述第1分割區域與所述第2分割區域的邊界附近的所述第1分割區域側的區域，

所述第3曝光工序中，相對于被曝光面以與所述第1曝光工序相同的光照射角度進行曝光，在所述第3掩模的掩模開口與被曝光面之間配置聚光機構，從而使掩模透射光聚光于所述邊界附近的所述第1分割區域側的區域。