[發明專利]顯影構件、處理盒和電子照相設備有效
| 申請號: | 201380034294.3 | 申請日: | 2013-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN104395838B | 公開(公告)日: | 2018-09-25 |
| 發明(設計)人: | 山田真樹;櫻井有治;石井亨;小柳崇 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/08 | 分類號: | G03G15/08 |
| 代理公司: | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人: | 魏啟學 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯影 構件 處理 電子 照相 設備 | ||
1.一種顯影構件,其包括芯軸、在所述芯軸的外周面上形成的彈性層和覆蓋所述彈性層的外周面的表面層,其特征在于
所述表面層含有第1樹脂和第2樹脂,
所述第1樹脂在相鄰兩個氨基甲酸酯鍵之間具有選自由以下(A)和(B)組成的組的至少一種結構,
(A)由以下結構式(1)表示的結構、以及選自由以下結構式(2)表示的結構和以下結構式(3)表示的結構組成的組的一種或兩種結構;
(B)由以下結構式(4)表示的結構;和
所述第2樹脂為具有以下結構式(5)的結構、并且具有20℃以上且120℃以下的玻璃化轉變點Tg的樹脂:
所述結構式(5)中,R1表示氫原子或甲基,R2表示具有1-4個碳原子的亞烷基,以及R3和R4各自獨立地表示具有1個或2個碳原子的烷基。
2.根據權利要求1所述的顯影構件,其中,在所述(A)中,“由結構式(1)表示的結構的摩爾數”:“由結構式(2)表示的結構和由結構式(3)表示的結構的摩爾數之和”為80:20~50:50。
3.一種顯影構件,其包括芯軸、在所述芯軸的外周面上形成的彈性層和覆蓋所述彈性層的外周面的表面層,其特征在于:
所述表面層由如下物質的反應產物制成:
具有選自由以下(A)和(B)組成的組的至少一種結構的多元醇,
具有由以下結構式(6)表示的結構、并且具有50℃以上且120℃以下的玻璃化轉變點Tg的丙烯酸類樹脂,和
異氰酸酯化合物:
(A)由以下結構式(1)表示的結構、以及選自由以下結構式(2)表示的結構和以下結構式(3)表示的結構組成的組的一種或兩種結構;
(B)由以下結構式(4)表示的結構:
所述結構式(6)中,R5表示氫原子或甲基,和R6表示具有1-4個碳原子的亞烷基。
4.根據權利要求3所述的顯影構件,其中所述異氰酸酯化合物為芳香族異氰酸酯。
5.一種顯影構件,其包括芯軸、在所述芯軸的外周面上形成的彈性層和覆蓋所述彈性層的外周面的表面層,其特征在于:
所述表面層含有聚氨酯樹脂,
所述聚氨酯樹脂在兩個氨基甲酸酯鍵之間具有選自由以下(A)和(B)組成的組的至少一種結構的部分結構,和,
所述聚氨酯樹脂具有在相鄰兩個氨基甲酸酯鍵之間具有以下(C)的結構、并且不具有以下(A)和(B)的結構的部分結構:
(A)由以下結構式(1)表示的結構、以及選自由以下結構式(2)表示的結構和以下結構式(3)表示的結構組成的組的一種或兩種結構;
(B)由以下結構式(4)表示的結構:
(C)由以下結構式(7)表示的結構以及選自由以下結構式(8)表示的結構和以下結構式(9)表示的結構組成的組的一種或兩種結構;
所述結構式(7)中,R7表示氫原子或具有1-3個碳原子的烷基,R8表示具有1-4個碳原子的亞烷基,以及符號“*”表示與構成氨基甲酸酯鍵的碳原子的鍵合位置;
所述結構式(8)中,R9表示氫原子或甲基,和R10表示具有1個或2個碳原子的烷基,
6.根據權利要求5所述的顯影構件,其中,在所述(A)中,“由所述結構式(1)表示的結構的摩爾數”:“由所述結構式(2)表示的結構的摩爾數和由所述結構式(3)表示的結構的摩爾數之和”為80:20~50:50。
7.根據權利要求5所述的顯影構件,其中,在所述(C)中,由所述結構式(8)表示的結構和由所述結構式(9)表示的結構的總的摩爾數與由所述結構式(7)表示的結構、由所述結構式(8)表示的結構和由所述結構式(9)表示的結構的摩爾數之和的比為50%以上。
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