[發明專利]信息記錄介質用玻璃基板和信息記錄介質用玻璃基板的制造方法

有效

• 申請號: 201380034217.8
• 申請日: 2013-06-18
• 公開（公告）號: CN104395959B
• 公開（公告）日: 2017-12-01
• 發明（設計）人: 島津典子
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/73
• 分類號: G11B5/73;C03C15/00;C03C23/00;G11B5/84
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 丁香蘭,龐東成

1.一種信息記錄介質用玻璃基板，該信息記錄介質用玻璃基板在玻璃基板的主表面上形成有磁性記錄層，其用于磁性記錄面中的記錄密度為600Gbit/平方英寸以上的信息記錄介質，其中，

對于該信息記錄介質用玻璃基板而言，

在進行將該信息記錄介質用玻璃基板在40℃、pH11的氫氧化鈉溶液中浸漬30分鐘的第1堿處理的情況下，所述第1堿處理前后的該信息記錄介質用玻璃基板的表面的Ra變化值的平均值為以下，

在進行將該信息記錄介質用玻璃基板在25℃、pH12的氫氧化鈉溶液中浸漬2.5小時的第2堿處理的情況下，所述第2堿處理前后的該信息記錄介質用玻璃基板的表面的Ra變化值的平均值為以下。

2.如權利要求1所述的信息記錄介質用玻璃基板，其中，

對于所述信息記錄介質用玻璃基板而言，

所述第1堿處理前后的Ra變化值的平均值為以下，

所述第2堿處理前后的Ra變化值的平均值為以下。

3.如權利要求1或2所述的信息記錄介質用玻璃基板，其中，利用原子力顯微鏡所測定的該信息記錄介質用玻璃基板的表面的Ra在1μm²區域的測定中為且在10μm²區域的測定中為

4.一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其為權利要求1～3中任一項所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，

對圓盤狀玻璃部件的主表面進行研磨工序，

在所述研磨工序后，實施下述處理：使研磨后的所述圓盤狀玻璃部件與0.1ppm～1.4ppm的含氫水接觸1分鐘～10分鐘，之后使所述圓盤狀玻璃部件與pH10.0～11.0的堿溶液接觸5分鐘～20分鐘，之后使所述圓盤狀玻璃部件與0.05％～0.5％的有機酸接觸5分鐘～20分鐘；其后實施最終清洗工序。

5.一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其為權利要求1～3中任一項所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，

對圓盤狀玻璃部件的主表面進行研磨工序，

在所述研磨工序后，實施下述處理：使研磨后的所述圓盤狀玻璃部件與pH10.0～11.0的堿溶液接觸5分鐘～20分鐘后，使所述圓盤狀玻璃部件與0.05％～0.5％的有機酸接觸5分鐘～20分鐘；其后實施最終清洗工序。

6.一種信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其為權利要求1～3中任一項所述的信息記錄介質用玻璃基板的制造方法，其中，

對圓盤狀玻璃部件的主表面進行研磨工序，

在所述研磨工序后，實施下述處理：使研磨后的所述圓盤狀玻璃部件與1.5ppm的含氫水接觸3分鐘，之后使該研磨后的所述圓盤狀玻璃部件與pH10.0～11.0的堿溶液接觸5分鐘～20分鐘；其后實施最終清洗工序。