[發明專利]顯影處理廢液濃縮方法及顯影處理廢液的再循環方法有效
| 申請號: | 201380033687.2 | 申請日: | 2013-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN104395834B | 公開(公告)日: | 2019-07-05 |
| 發明(設計)人: | 割石幸司;小林史和;森崇德 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/32 | 分類號: | G03F7/32;C02F1/04;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/11 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯影 處理 廢液 濃縮 方法 再循環 | ||
1.一種感光性平版印刷版的顯影處理廢液濃縮方法,其包括下述工序:
得到顯影處理廢液的工序,所述顯影處理廢液是通過將感光性平版印刷版原版曝光后在進行顯影的自動顯影機的顯影處理浴中利用顯影液對該曝光后的感光性平版印刷版原版進行顯影處理而產生的,所述感光性平版印刷版原版在支撐體上依次具有自由基聚合性圖像記錄層和保護層,所述自由基聚合性圖像記錄層含有(a)紅外線吸收染料、(b)聚合引發劑及(c)聚合性化合物,所述顯影液含有1質量%~10質量%的選自具有萘骨架的陰離子性表面活性劑及具有萘骨架的非離子性表面活性劑中的至少一種,沸點在100℃~300℃的范圍的有機溶劑的含量為2質量%以下,且所述顯影液的pH為6.0~9.5;及
對所述顯影處理廢液利用蒸發濃縮裝置按照濃縮后的顯影處理廢液的量相對于濃縮前的顯影處理廢液的量的比以容量基準計為1/2~1/10的方式進行蒸發濃縮的工序。
2.根據權利要求1所述的方法,其包括通過冷卻使所述蒸發濃縮工序中產生的水蒸汽凝結從而生成再生水的工序。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其中,
所述表面活性劑為含有聚氧亞烷基鏈的化合物,所述聚氧亞烷基鏈含有選自氧亞乙基及氧亞丙基中的至少一種。
4.根據權利要求3所述的方法,其中,
在所述聚氧亞烷基鏈中作為重復單元而含有的所述氧亞乙基及氧亞丙基的數量總共為5~30。
5.根據權利要求1或2所述的方法,其中,
所述保護層為含有親水性聚合物的保護層,所述親水性聚合物至少含有下述通式(1)所代表的重復單元和下述通式(2)所代表的重復單元,
通式(1)及通式(2)中,R1及R4各自獨立地表示氫原子或甲基;R2及R3各自獨立地表示氫原子、甲基或乙基;R5表示直鏈、支鏈或環狀的碳原子數2~8的未取代烷基、可以具有芳環或雜環作為取代基的取代烷基、或下述通式(3)所代表的取代基,
通式(3)中,L表示碳原子數2~6的亞烷基,R6表示直鏈、支鏈或環狀的碳原子數4~8的未取代烷基或芳族取代烷基;n表示聚醚的平均加成摩爾數,為2~4的范圍。
6.根據權利要求5所述的方法,其中,
所述親水性聚合物進一步含有下述通式(4)所代表的重復單元,
通式(4)中,R7表示氫原子或甲基;X為單鍵或選自下述結構組(5)中示出的結構的二價連結基團、或表示多個選自下述結構組(6)中示出的結構組合而成的二價連結基團;Y表示羧酸基、羧酸鹽基、磺酸基、磺酸鹽基、磷酸基、磷酸鹽基、膦酸基、膦酸鹽基、羥基、羧基甜菜堿基、磺基甜菜堿基、銨基、或下述通式(7)所代表的聚醚基,
結構組(5)
結構組(6)
通式(7)中,L’表示碳原子數2~3的亞烷基,R8表示氫原子或甲基;n’表示聚醚的平均加成摩爾數,且為2~4的范圍。
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