[發明專利]處理裝置和圖像形成裝置

有效

• 申請號: 201380033501.3
• 申請日: 2013-06-24
• 公開（公告）號: CN104412172B
• 公開（公告）日: 2019-05-17
• 發明（設計）人: 赤川雄飛
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: G03G21/16
• 分類號: G03G21/16;B41J29/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 謝攀;徐紅燕

1.一種處理裝置，其中，具備：

第一處理單元和第二處理單元，在對用紙進行圖像形成處理的裝置本體的相同的側面側彼此在上下方向上重疊地配置，

所述第二處理單元被配置于所述第一處理單元之上，被構成為在對所述裝置本體的離開接近方向上滑行移動自如，

所述第二處理單元具有第二處理單元本體以及被所述第二處理單元本體支持的排紙托盤，所述排紙托盤被配置在所述第二處理單元本體的與所述裝置本體相反側的側面，

在所述離開接近方向，所述第二處理單元本體的尺寸值比所述第一處理單元的尺寸值小，所述第二處理單元本體以在平面視圖中在不從所述第一處理單元突出的范圍內滑行移動的方式構成。

2.根據權利要求1所述的處理裝置，其中，

所述第二處理單元被構成為被所述第一處理單元的上表面支持并在所述離開接近方向上滑行移動自如。

3.根據權利要求1所述的處理裝置，其中，

在所述離開接近方向以及與所述離開接近方向和所述上下方向正交的縱深方向的每一個上，所述第二處理單元的尺寸值為所述第一處理單元的尺寸值以下。

4.根據權利要求3所述的處理裝置，其中，

在所述裝置本體處于工作狀態時，在平面視圖中，所述第二處理單元不向所述第一處理單元的外部突出。

5.根據權利要求1所述的處理裝置，其中，

所述第一處理單元在上表面具有圖像形成處理相關的構件通過自如的開口部，

所述開口部被配置為在所述第二處理單元被配置于從所述裝置本體分離的規定的分離位置的狀態下在所述第二處理單元與所述裝置本體之間露出并且在所述第二處理單元被配置在鄰近所述裝置本體的鄰近位置的狀態下不露出。

6.根據權利要求1所述的處理裝置，其中，

所述第二處理單元比所述第一處理單元輕。

7.根據權利要求1所述的處理裝置，其中，

所述排紙托盤以在與所述離開接近方向和所述上下方向正交的縱深方向上延伸的軸構件為中心在規定范圍內旋轉自如地被所述第二處理單元本體支持，所述軸構件與所述第二處理單元本體的下游側端部相比被配置于上游側。

8.根據權利要求1所述的處理裝置，其中，

所述第一處理單元是收容向所述裝置本體供給的用紙的供紙裝置。

9.根據權利要求1所述的處理裝置，其中，

所述第二處理單元是對在所述裝置本體中施行了圖像形成處理的用紙施行后處理的后處理裝置。

10.一種圖像形成裝置，其中，具備：

裝置本體，對用紙進行圖像形成處理；以及

第一處理單元和第二處理單元，在所述裝置本體的相同的側面側彼此在上下方向上重疊地配置，

所述第二處理單元被配置于所述第一處理單元之上，被構成為在對所述裝置本體的離開接近方向上滑行移動自如，

所述第二處理單元具有第二處理單元本體以及被所述第二處理單元本體支持的排紙托盤，所述排紙托盤被配置在所述第二處理單元本體的與所述裝置本體相反側的側面，

在所述離開接近方向，所述第二處理單元本體的尺寸值比所述第一處理單元的尺寸值小，所述第二處理單元本體以在平面視圖中在不從所述第一處理單元突出的范圍內滑行移動的方式構成。

11.根據權利要求10所述的圖像形成裝置，其中，

所述第二處理單元被構成為被所述第一處理單元的上表面支持并在所述離開接近方向上滑行移動自如。

12.根據權利要求10所述的圖像形成裝置，其中，

在所述離開接近方向以及與所述離開接近方向和所述上下方向正交的縱深方向的每一個上，所述第二處理單元的尺寸值為所述第一處理單元的尺寸值以下。