[發明專利]用于真空處理的系統結構

有效

• 申請號: 201380033430.7
• 申請日: 2013-04-26
• 公開（公告）號: CN104582863A
• 公開（公告）日: 2015-04-29
• 發明（設計）人: T·布盧克;V·沙阿;A·里波薩恩
• 申請（專利權）人: 因特瓦克公司
• 主分類號: B05D3/00
• 分類號: B05D3/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 劉興鵬

1.用于在真空室中處理基片的系統，其包括：

多個承載器，每個承載器被構造用于支撐并傳送基片貫穿所述系統；

裝載站，用于裝載基片到所述承載器上；

承載器傳送系統，用于傳送所述承載器貫穿所述系統并將所述承載器返回到所述裝載站；

裝料鎖氣室裝置，用于將承載器引入真空環境中；以及，

至少一個真空處理室，其從所述裝料鎖氣室裝置接收多個承載器，所述真空處理室被確定尺寸并被構造成用于同時容納所述多個承載器并且同時處理定位在所述多個承載器上的基片。

2.如權利要求1所述的系統，其中所述承載器中的每個被構造用于支撐1×n的線性陣列的基片，其中n為大于1的整數，使得所述真空處理室同時容納并處理m×n的陣列的基片，其中m為容納在所述真空處理室內的承載器的數目，并且其中m為大于1的整數。

3.如權利要求1所述的系統，還包括被定位在所述裝載站和所述裝料鎖氣室裝置之間的緩沖站，所述緩沖站被構造成同時容納至少與被同時容納在所述處理室中的承載器相同數目的承載器。

4.如權利要求3所述的系統，其中所述緩沖站包括承載器旋轉裝置，其用于將所述承載器從水平取向旋轉到豎直取向。

5.如權利要求4所述的系統，其中所述承載器傳送裝置在大氣環境中以水平取向傳送承載器并且在真空環境中以豎直取向傳送承載器。

6.如權利要求1所述的系統，其中所述承載器傳送系統包括用于在完成處理之后將承載器返回到所述裝載站的傳送機。

7.如權利要求6所述的系統，其中所述傳送機在大氣環境中在所述處理室上方經過。

8.如權利要求6所述的系統，其中所述承載器傳送系統還包括多個磁性輪裝置，并且所述承載器中的每個包括騎跨在所述磁性輪上的磁性條。

9.如權利要求8所述的系統，其中所述多個磁性輪裝置包括多個旋轉的軸，所述旋轉的軸中的每個具有以交替的磁極性附裝到其上的多個磁性輪。

10.如權利要求9所述的系統，其中所述軸中的每個通過柔性的帶被旋轉。

11.如權利要求10所述的系統，其中所述柔性的帶包括O形環。

12.如權利要求8所述的系統，其中所述真空處理室具有入口開口和出口開口，并且其中所述磁性輪中的一些被定位在所述入口開口和出口開口內。

13.如權利要求1所述的系統，其中所述承載器傳送系統包括被連接至所述裝載站的第一承載器升降機，和被連接至所述系統的與裝載站相反的端部的第二承載器升降機。

14.如權利要求1所述的系統，還包括基片拾取裝置，其具有多行卡盤，每個卡盤被構造用于保持基片，所述基片拾取裝置被構造成豎直地上下移動以及圍繞軸線旋轉，所述基片拾取裝置還被構造成同時地從一個承載器移除處理過的基片并將新的基片裝載在另一個承載器上。

15.如權利要求14所述的系統，其中所述基片拾取裝置被構造成同時地將處理過的基片放在一個傳送機上并從另一個傳送機拾取新的基片，同時，所述拾取裝置同時地從一個承載器移除處理過的基片并將新的基片裝載在另一個承載器上。

16.如權利要求15所述的系統，其中所述多個卡盤包括多個伯努利卡盤，它們被構造成利用伯努利吸力保持基片。

17.如權利要求15所述的系統，其中所述拾取裝置在所述軸線的一側上具有兩行卡盤并且在所述軸線的另一側上具有兩行卡盤。