[發(fā)明專利]制造具有局部背表面場(LBSF)的太陽能電池的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201380032451.7
• 申請日: 2013-05-24
• 公開（公告）號: CN104396027A
• 公開（公告）日: 2015-03-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: W·斯托庫姆;O·多爾;I·科爾勒;C·馬托斯徹克
• 申請（專利權(quán)）人: 默克專利股份有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 陳晰

1.制造具有局部背表面場(LBSF)的太陽能電池的方法，其特征在于在一個蝕刻步驟中使用經(jīng)印刷的蝕刻膏蝕刻磷硅酸鹽玻璃層(PSG或PSG層)和位于其下的硅層，和由此在一個方法步驟中借助堿性蝕刻膏進行背面拋光和背面邊緣絕緣化。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于所述背面拋光和背面邊緣絕緣化借助堿性蝕刻膏進行，所述堿性蝕刻膏包含NaOH、KOH或其混合物作為蝕刻組分，并且其在一個方法步驟中蝕刻磷硅酸鹽玻璃層(PSG或PSG層)和位于其下的硅層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其特征在于使用對于硅層具有特定選擇性的酸性蝕刻膏將接觸窗蝕刻至晶片的背面多層(鈍化層和SiN_x)中。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求1、2或3之一的方法，包括以下方法步驟：

I.表面紋理化

II.磷摻雜(～65Ω/sq?POCl₃擴散)

III.借助堿性蝕刻膏蝕刻背面，由此拋光了表面并且同時使p/n結(jié)分開，其中使用模版印刷將蝕刻膏印刷在背面上，將該膏在約150℃下的帶式爐中活化5分鐘，并且隨后用去離子水沖洗晶片，

IV.用具有15-30nm厚度的SiO2或Al2O3鈍化層涂覆背面，并且隨后借助等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD-SiN_x)用氮化硅(70-100nm)涂覆背面和前面，

V.使用絲網(wǎng)印刷來印刷蝕刻膏，在帶式爐中加熱并且用去離子水

沖洗，

VI.絲網(wǎng)印刷用以金屬化前面和背面，隨后燒結(jié)(共燒結(jié))。

5.堿性蝕刻膏在根據(jù)權(quán)利要求1或2之一的方法中的用途，其特征在于所述膏包含5-40wt％量的選自NaOH、KOH和其混合物的堿性蝕刻組分。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的含KOH蝕刻膏的用途，所述蝕刻膏包含選自以純形式或混合物形式的甘油、乙二醇、聚乙二醇、辛醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、二甘醇單甲醚、二甘醇單乙醚、二甲亞砜和γ-丁內(nèi)酯的溶劑。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6的含KOH蝕刻膏的用途，包含至少一種非粒狀的增稠劑。

8.根據(jù)權(quán)利要求5-7的一項或多項的含KOH蝕刻膏的用途，包含選自以純形式或混合物形式的聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酸酯、羧甲基纖維素和羥丙基纖維素的非粒狀增稠劑。

9.根據(jù)權(quán)利要求5-8的一項或多項的含KOH蝕刻膏的用途，包含選自以純形式或混合物形式的炭黑、熱解硅酸、硅酸鎂鋁和低熔點蠟顆粒的粒狀增稠劑。

10.根據(jù)權(quán)利要求5-9的一項或多項的含KOH蝕刻膏的用途，包含0.1-35wt％量的增稠劑。

11.含KOH蝕刻膏在根據(jù)權(quán)利要求1-4的一項或多項的方法中用于制造具有LBSF的太陽能電池的用途。

12.含磷酸蝕刻膏在根據(jù)權(quán)利要求1-4的一項或多項的方法中用于制造具有LBSF的太陽能電池的用途，用于刻開背面鈍化層。