[發明專利]填充水平測量設備及用于確定介電常數的設備

有效

• 申請號: 201380032284.6
• 申請日: 2013-05-29
• 公開（公告）號: CN104395713B
• 公開（公告）日: 2017-08-15
• 發明（設計）人: 托馬斯·布勒德特;彼得·克勒費爾
• 申請（專利權）人: 恩德萊斯和豪瑟爾兩合公司
• 主分類號: G01F23/00
• 分類號: G01F23/00;G01N27/22;G01F23/284;G01F23/296
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司11219
• 代理人: 趙曉祎,戚傳江

1.一種填充水平測量設備(9)，用于借助于行進時間方法來確定容器(12)中的過程介質(10)的填充水平，其特征在于，

所述填充水平測量設備(9)具有用于確定第二介質(11)的介電常數的裝置(1)，所述第二介質(11)位于所述填充水平測量設備(9)和所述過程介質(10)之間，

其中，所述裝置(1)包括用于高頻測量信號的至少一個波導(2)，其中所述波導(2)至少部分地填充有電介質(21)并且被實施并可布置為使得所述電介質(21)與所述第二介質(11)形成界面(23)，經由所述波導(2)而被供給到所述第二介質(11)的測量信號的相當大部分在所述界面(23)處被反射。

2.根據權利要求1所述的填充水平測量設備，其特征在于，

設置有至少一個電子單元(98)，所述電子單元(98)被實施為基于朝向所述過程介質(10)發射并在所述過程介質上反射的信號來確定所述填充水平的測量值，并且根據所述第二介質(11)的測量的介電常數來確定所述填充水平的校正測量值。

3.根據權利要求2所述的填充水平測量設備，其特征在于，

在所述電子單元(98)中配備有根據所述第二介質(11)的介電常數的用于所述填充水平的測量值的校正的至少一個校正值和/或校正公式，并且所述電子單元(98)被實施為根據所述校正值和/或所述校正公式來校正所述填充水平的測量值。

4.根據權利要求1至3中的一項所述的填充水平測量設備，其特征在于，

所述填充水平測量設備(9)被實施為超聲測量設備、具有導向信號的雷達測量設備或者利用自由傳播波的雷達測量設備。

5.根據權利要求1所述的填充水平測量設備，其特征在于，所述裝置(1)還包括電子單元(8)，

所述波導(2)能夠引入到所述容器(12)內以使得所述電介質(21)與所述第二介質(11)形成所述界面(23)，并且

所述電子單元(8)被實施為接收在所述界面(23)上反射的信號并且參考幅度來評估反射信號。

6.根據權利要求5所述的填充水平測量設備，其特征在于，

所述電子單元(8)將所述測量信號的幅度與所述反射信號的幅度進行比較，并且從所述幅度的比來確定所述第二介質(11)的介電常數。

7.根據權利要求5或6所述的填充水平測量設備，其特征在于，

所述電介質(21)具有截錐形端部(22)。

8.根據權利要求5或6所述的填充水平測量設備，其特征在于，

在所述裝置(1)上形成有至少一個冷卻翅片(5)。

9.根據權利要求5或6所述的填充水平測量設備，其特征在于，

所述波導(2)被實施為中空導體或同軸導體。

10.一種用于確定容器(12)中的過程介質(10)的填充水平的系統，至少包括根據權利要求1至9中的一項所述的用于借助于行進時間方法來確定所述過程介質(10)的填充水平的填充水平測量設備(9)，其中第二介質(11)位于所述過程介質(10)和所述填充水平測量設備(9)之間。