[發明專利]防反射膜的制造方法有效
| 申請號： | 201380032194.7 | 申請日： | 2013-06-14 |
| 公開（公告）號： | CN104380151A | 公開（公告）日： | 2015-02-25 |
| 發明（設計）人： | 山田信明;藤井曉義 | 申請（專利權）人： | 夏普株式會社 |
| 主分類號： | G02B1/11 | 分類號： | G02B1/11;B29C59/02;B29K33/04;B29L9/00;B29L11/00 |
| 代理公司： | 北京市隆安律師事務所 11323 | 代理人： | 權鮮枝 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反射 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種防反射膜的制造方法，其特征在于，具有：
在基材上層疊轉印樹脂的工序；
對轉印樹脂表面涂布脫模/防污材料的工序；
對模具表面涂布脫模/防污材料的工序；以及
在對轉印樹脂表面和模具表面分別涂布脫模/防污材料后，將模具按壓于轉印樹脂，從而將模具所具有的納米結構圖案轉印到轉印樹脂的工序，
該納米結構圖案具有相鄰的凹部的底點間的寬度為可見光波長以下的多個凹部。
2.根據權利要求1所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述脫模/防污材料包含氟化合物。
3.根據權利要求1或2所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
包含在上述對轉印樹脂表面涂布脫模/防污材料的工序之前對轉印樹脂表面進行表面改性的工序。
4.根據權利要求2所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述氟化合物為具有氟烷基的硅氧烷化合物。
5.根據權利要求2所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述氟化合物為具有氟烷基和聚合性基團的化合物。
6.根據權利要求5所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述聚合性基團為丙烯酸酯基團和/或甲基丙烯酸酯基團。
7.根據權利要求5或6所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，
上述將納米結構圖案轉印到轉印樹脂的工序包含與將模具按壓于轉印樹脂同時地進行紫外線照射的工序。
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